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离子源

（英文名称：Ion source）是使中性原子或分子电离，并从中引出离子束流的装置。它是各种类型的离子加速器、质谱仪、电磁同位素分离器、离子注入机、离子束刻蚀装置、离子推进器以及受控聚变装置中的中性束注入器等设备的不可缺少的部件。

气体放电、电子束对气体原子(或分子)的碰撞，带电粒子束使工作物质溅射以及表面电离过程都能产生离子，并被引出成束。根据不同的使用条件和用途，已研制出多种类型的离子源。使用较广的有弧放电离子源、PIG离子源、双等离子体离子源和双彭源这些源都是以气体放电过程为基础的,常被笼统地称为弧源。高频离子源则是由气体中的高频放电来产生离子的，也有很广的用途。新型重离子源的出现，使重离子的电荷态明显提高,其中较成熟的有电子回旋共振离子源(ECR)和电子束离子源(EBIS)。负离子源性能较好的有转荷型和溅射型两种。在一定条件下，基于气体放电过程的各种离子源，都能提供一定的负离子束流。离子源是一门具有较广应用领域的学科，在许多基础研究领域如原子物理、等离子化学、核物理等研究中，离子源都是十分重要不可缺少的设备。 购买真空镀膜机，欢迎致电无锡光润！上海真空镀膜机直销

不同领域对于真空镀膜设备的需求都是不同的，所以真空镀膜设备厂家需要着重观察市场，这对于真空镀膜设备的发展是有着很大的帮助的。

1.冶炼及冶金行业 我国炉外脱气精炼今后要增加50%以上（根据不同品种）。真空脱气机组的需求约为10～15亿<BR>元/年。其次是真空冶金炉，如真空感应炉、真空电弧炉和真空电阻炉等冶炼合金钢的基本设备。

2.真空热处理行业 我国真空热处理行业提出2010年基本完成以少氧化热处理为中心的技术改造，预计至少需要5000~8000 台先进设备。

3.电工行业今后我国电机制造业的目标是上品种、上档次、降低能耗和物耗，扩大出口。

4.电子信息行业预测2010年我国将成为世界上第二大半导体集成电路市场。总需求量为1000多亿块，达到1000亿以上的总金额。

5.食品工业 用于食品工业中的主要真空设备有真空冷冻干燥机、真空包装机、真空封罐机、真空浸渍和真空保鲜装置等。食品保鲜与加工设备，拥有巨大的市场潜力。

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真空镀膜主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜。真空镀膜设备若有灰尘，将会影响真空镀膜的效果和质量。首先，被镀膜材料表面肯定是有灰尘的，在尽量减小材料表面灰尘的前提下，我们还应当注意以下几点：

1、真空镀膜设备使用一段时间后，必须要对设备进行清洁维护；

2、规范操作人员及操作要求，包括穿戴专业的服装、手套、脚套等；

3、严格处理衬底材料，做到清洁干净，合乎工艺要求；

4、源材料符合必要的纯度要求；

5、保证设施设备及操作环境清洁。如材料、样品放置地环境要求，环境温度湿度要求等；

6、降低真空镀膜设备室内空气流动性低、尽量减小室外灰尘侵入。

真空镀膜设备的工作离不开相应的监测，那么如何监测呢？下面一起来看看吧。

1.目视监控使用双眼监控，因为薄膜在成长的过程中，因为干涉现象会有色彩改变，我们即是依据色彩改变来操控膜厚度的，此种办法有必定的差错，所以不是很精确，需求依托经历。

2.定值监控法此办法使用停镀点不在监控波长四分之一波位，然后由计算机计算在波长一时总膜厚之反射率是多少，此即为中止镀膜点。

3.水晶振动监控使用石英晶体振动频率与其质量成反比的原理工作的。可是石英监控有一个欠好的地方即是当膜厚添加到必定厚度后，振动频率不全然因为石英自身的特性使厚度与频率之间有线性关系，此刻有必要使用新的石英振动片。

4.极值监控法当膜厚度添加的时候其反射率和穿透率会跟着起改变，当反射率或穿透率走到极值点的时候，就能够知道镀膜之光学厚度ND是监控波长（入）的四分之一的整倍数。可是极值的办法差错对比大，因为当反射率或许透过率在极值邻近改变很慢，亦即是膜厚ND添加许多，R/T才有改变。反映对比活络的方位在八分之一波利益。

目前市场上的真空镀膜设备厂家是非常多的，所以竞争就非常激烈了，消费者在选择真空镀膜设备厂家的时候，是需要通过一些方面来鉴别真空镀膜设备厂家的实力。

一、经验。真空镀膜设备维修和很多其他的技能是一样的，具有丰富的经验才能应对多种状况的出现，才能保障好结果。

二、成功案例。真空镀膜设备维修案例是直接的实力见证之一，真空镀膜设备维修要的还是实际的操作，这不仅*包括了真空镀膜设备本身，还包括了像真空镀膜设备这样的专业配置，毕竟配置是真空镀膜设备维修的重要前提。

三、售后服务。售后服务是真空镀膜设备维修后的一个重要保障之一，完善的售后服务是真空镀膜设备维修的一部分。

四、维修配件必须要有保障。每一个公司很难在每个行业都具有很高的水平，这也是为什么现在社会的分工越来越细的原因。

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霍尔离子源

霍尔离子源是阳极在一个强轴向磁场的协作下将工艺气体等离子化。这个轴向磁场的强不平衡性将气体离子分离并形成离子束。由于轴向磁场的作用太强，霍尔离子源离子束需要补充电子以中和离子流。常见的中和源就是钨丝（阴极）。

霍尔离子源的特点是：

1简单耐用。2离子电流与气体流量几乎成比例，可获得较大离子电流。3钨丝一般横跨在出口，收离子束冲击很快会销蚀，尤其对反应气体，一般十几个小时就需更换。并且钨丝还会有一定的污染。

为解决钨丝的缺点。有采用较长寿中和器的，如一个小的空心阴极源。

霍尔离子源可以说是应用较广的离子源。如Veece的Mark I 和 Mark II 离子源。适用的如国产的大部分离子源。

如果镀耐磨装饰膜，膜厚大，需要与机体结合力强，而均匀性要求不高。可用霍尔离子源。其离子电流大，且离子能级也高。如果是镀光学膜，则主要要求离子电流能级集中，离子电流均匀性好。故建议用Kaufman或RF离子源，有条件的可采用ECR（电子回旋）或ICP(感应耦合)离子源。另外，也要考虑到耗材，如用钨丝的霍尔源在反应气体中十来个小时就烧断了。而离子源如ICP离子源可在反应气体中连续工作几百小时。 上海真空镀膜机直销

无锡光润真空科技有限公司是一家无锡光润真空科技有限公司(简称“光润真空”)是从事研发、设计、销售、制造、服务真空镀膜设备于一体的综合性科技公司。 真空镀膜机，卷绕镀膜机，磁控镀膜机，PVD设备，多弧镀膜机，表面处理设备，蒸空式真空镀膜机，磁控光学真空镀膜机，离子真空镀膜机，磁控真空镀膜机，光学真空镀膜机的公司，致力于发展为创新务实、诚实可信的企业。公司自创立以来，投身于真空镀膜机，镀膜机，ＰＶＤ设备，表面处理设备，是机械及行业设备的主力军。无锡光润真空科技继续坚定不移地走高质量发展道路，既要实现基本面稳定增长，又要聚焦关键领域，实现转型再突破。无锡光润真空科技始终关注机械及行业设备市场，以敏锐的市场洞察力，实现与客户的成长共赢。