全真空可嵌入闸阀L型转移阀

时间:2024年05月07日 来源:

微泰半导体主加工设备腔内精确压力控制的闸阀,有气动多位置闸阀(气动多定位闸阀、多定位插板阀、Pneumatic Multi Position)、气动(锁定)闸阀和手动(锁定)闸阀,蝶阀,Butterfly Valve,步进电机插板阀Stepper Motor Gate Valve,加热插板阀(加热闸阀Heating gate valve),铝闸阀(AL Gate Valve),三重防护闸阀,应用于• Evaporation(蒸发)• Sputtering(溅射)• Diamond growth by MW-PACVD(通过MW-PACVD生长金刚石)• PECV• PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷对卷)• Coating(涂层)• Etch(蚀刻)• Diffusion(扩散)•CVD(化学气相沉积)等设备上。有中国台湾Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、马来西亚的英菲尼亚半导体、日本Micron、三星半导体和其它的设备使用业绩。真空闸阀的密封装置确保关闭时的高真空完整性,防止泄漏并维持腔室内的真空压力。全真空可嵌入闸阀L型转移阀

全真空可嵌入闸阀L型转移阀,闸阀

微泰半导体闸阀具有诸多特点:首先,它已向中国台湾的 Micron、UMC、AKT 等,新加坡的 Micron、Global Foundries,马来西亚的英菲尼亚半导体,日本的 Micron、三星半导体等众多设备厂批量供货,且品质得到认可,同时完成了对半导体 Utility 设备和批量生产设备的验证。其次,该闸阀采用陶瓷球机构,具有良好的抗冲击和震动性能,保证可使用 25 万次,且检修方便,维护成本较低。它无 Particle 产生,采用陶瓷球不会有腐蚀和颗粒产生。此外,它还具有屏蔽保护功能,闸阀阀体与挡板之间的距离小于 1mm,能有效防止粉末侵入阀内,寿命为半永久性。其保护环设计也很独特,Protecrion Ring 通过流速上升设计防止粉末凝固,并通过打磨(研磨)工艺防止粉末堆积。微泰半导体闸阀被广泛应用于 Evaporation(蒸发)、Sputtering(溅射)、Diamond growth by MW-PACVD(通过 MW-PACVD 生长金刚石)、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷对卷)、Coating(涂层)、Etch(蚀刻)、Diffusion(扩散)、CVD(化学气相沉积)等设备上,可替代 HVA 闸阀、VA T闸阀。该闸阀由上海安宇泰环保科技有限公司提供。全真空可嵌入闸阀蝶阀闸阀形体简单,结构长度短,制造工艺性好,适用范围广。

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半导体真空插板阀是一种用于半导体制造过程中的真空系统的阀门,主要作用是控制气体的流动,以维持真空环境的稳定。微泰半导体真空腔体用闸阀(插板阀)其特点包括:1. 高密封性:采用特殊的密封结构,能够有效地防止气体泄漏,保证真空系统的密封性。2. 耐腐蚀性:材料具有良好的耐腐蚀性,能够在半导体制造过程中的化学物质环境中稳定工作。3. 高精度:能够精确地控制气体的流量,满足半导体制造工艺对精度的要求。4. 快速响应:可以快速地开启和关闭,以适应半导体制造过程中的快速气体控制需求。5. 可靠性高:设计和制造过程严格,保证了其在长期使用中的可靠性和稳定性。有中国台湾Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、马来西亚的英菲尼亚半导体、日本Micron、三星半导体和其它的设备使用业绩。该闸阀由上海安宇泰环保科技有限公司提供。

微泰,多位闸阀,多位置闸阀,多定位闸阀应用于• Evaporation(蒸发)• Sputtering(溅射)• Diamond growth by MW-PACVD(通过MW-PACVD生长金刚石)• PECV• PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷对卷)• Coating(涂层)• Etch(蚀刻)• Diffusion(扩散)•CVD(化学气相沉积)等设备上。可替代VAT闸阀。微泰多位闸阀,多位置闸阀,多定位闸阀其特点是•操作模式:本地和远程•紧急情况:自动关闭•慢速泵送功能。多位闸阀,多位置闸阀,多定位闸阀规格如下:材料:阀体 STS304, 机制 STS304、法兰尺寸(内径) 4英寸~10英寸、闸门密封 FKM(VITON)、开/关振动 无振动、He泄漏率1X10-9 mbar.l/sec、闸门压差 ≤1.4 bar、分子流动电导(ISO100)1891 l/s、阀座 1X10-10 mbarㆍL/秒、泄漏率阀体 1X10-10 mbarㆍL/Sec、压力范围 1X10-10mbar 至 1.4 bar、闸门上任一方向的压差≤1.4 bar、安装位置:任意。有中国台湾Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、马来西亚的英菲尼亚半导体、日本Micron、三星半导体和其它的设备使用业绩,上海安宇泰环保科技有限公司。 真空闸阀由一个滑动门或板组成,可以移动以阻止或允许通过真空阀体,从而有效地将腔室与外部环境隔离。

全真空可嵌入闸阀L型转移阀,闸阀

微泰半导体主加工设备腔内精确压力控制的闸阀,晶圆输送阀Transfer Valve,传输阀、转换阀、输送阀、转移阀是安装在半导体PVDCVD设备工艺模块和工艺室之间的阀门系统。采用L型输送阀L-motion防止产生微粒(Particle),无需从设备上拆卸阀门,即可更换闸门和O形圈。大量采用缸套运动导轨Liner (motion guide),实现高精度、高耐用性.微泰晶圆输送阀L型输送阀L-motion,Transfer Valve,传输阀、转换阀、输送阀、转移阀Butterfly Valve有中国台湾Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、马来西亚的英菲尼亚半导体、日本Micron、三星半导体和其它的设备使用业绩。这些真空阀可以手动、气动或电子方式驱动,从而可以根据具体应用进行多功能控制。三防闸阀闸板阀

控制系统和蝶阀使用步进电机操作,而多定位闸阀使用气动控制操作。全真空可嵌入闸阀L型转移阀

微泰半导体主加工设备腔内精确压力控制的闸阀,插板阀,气动(锁定)闸阀和手动(锁定)闸阀-按产品尺寸和法兰类型排列-ID为1.5英寸至30英寸,ISO、CF&JIS和ASA法兰等-现有手动闸阀的锁定功能(Exist Manual GV of Locking Function)。微泰气动(锁定)闸阀和手动(锁定)闸阀应用于• Evaporation(蒸发)• Sputtering(溅射)• Diamond growth by MW-PACVD(通过MW-PACVD生长金刚石)• PECV• PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷对卷)• Coating(涂层)• Etch(蚀刻)• Diffusion(扩散)•CVD(化学气相沉积)等设备上。有中国台湾Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、马来西亚的英菲尼亚半导体、日本Micron、三星半导体和其它的设备使用业绩。全真空可嵌入闸阀L型转移阀

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