上海CPS高精度纳米粒度分析仪报价

PEDOT是EDOT(3,4-乙撑二氧噻吩单体)的聚合物，PEDOT具有高电导率、高度的环境稳定性、对可见光具有高透过率等特点，大量用于光伏、电容器、电致变色、触摸屏等行业，用来制作抗静电涂层、OLED(有机电激发光二极管)、有机薄膜太阳能电池材料、电极材料、电化学生物传感器等。PEDOT及其复合材料，比如PEDOT/PSS(聚乙撑二氧噻吩和聚苯乙烯磺酸根阴离子的化学聚合物)的粒度大小和粒度分布与其导电性能相关。CPS纳米粒度分析仪可以提供确切稳定的测量分析，有助于终产品导电性能的评价。CPS纳米粒度分析仪测定PEDOT/PSS得到的结果，粒径为0.022微米(仪器使用转速为24,000转/分钟)。驰光机电科技具有一支经验丰富、技术力量过硬的专业技术人才管理团队。上海CPS高精度纳米粒度分析仪报价

光子相关光谱法就根据特定方向的光子涨落起伏分析其颗粒大小。算法：采用除符合GB/T19627-2005/IS013321：1996标准的累积法外，还有R-R算法，可以算出纳米粒子样品的D50、D10及D90，并给出分布曲线。高灵敏度与信噪比：探测器采用专业级进口光电倍增管（PMT），对光子信号具有较高的灵敏度和信噪。纳米粒度仪分辨能力：中心部件采用CR-70-1-245数字相关器，具有识别5ns的光子脉冲分辨率。运算功能：采用高速数字相关器CR-70-1-245有245个通道进行数据采集与实时相关运算。稳定的光路系统：采用635nmLD激光光源和光纤技术搭建而成的光路系统。海南纳米粒度分析仪厂家公司地理位置优越，拥有完善的服务体系。

CMP(化学机械抛光)工艺中磨料颗粒的高精度粒径表征随着半导体工业飞速发展，电子器件尺寸缩小，要求晶片表面平整度达到纳米级。CMP工艺作为芯片制造业不可或缺的一个部分，其对于磨料的颗粒粒度表征要求十分重要。CMP过程中使用的磨料颗粒典型尺寸范围是10-200nm，其颗粒表征要求精确地确定纳米级颗粒的尺寸，因此高分辨率纳米粒度分析仪是磨料颗粒表征的完美解决方案。磨料对CMP工艺起着至关重要的作用！欢迎选用CPS纳米粒度分析仪为您完美解决磨料颗粒问题！

使用CPS分析仪平行测定3次高纯氧化铝粉得到的叠加图，表明仪器的重复性较好，样品的粒径为0.586微米。分析氧化铝粉末时，为防止样品发生凝聚，需要添加入少量的乙酸。氧化锌ZnO粉末：氧化锌俗称锌白，是锌的一种氧化物。氧化锌是一种常用的化学添加剂，大量地应用于塑料、硅酸盐制品、合成橡胶、润滑油、油漆涂料、药膏、粘合剂、食品、电池、阻燃剂等产品的制作中。氧化锌的能带隙和激子束缚能较大，透明度高，有优良的常温发光性能，在半导体领域的液晶显示器、薄膜晶体管、发光二极管等产品中均有应用。驰光机电科技有限公司始终以适应和促进发展为宗旨。

而化学机械抛光（Chemical mechanical polishing，CMP）是集成电路芯片的一个关键制程，国内抛光所用关键材料CMP抛光垫，几乎全部依赖进口。CMP典型的抛光浆料都是纳米级发烟硅石(5Vol%，170-230nm)、高纯硅胶(9Vol%，6-80nm)、氧化铈(6Vol%，200-240nm)或氧化铝颗粒，它们的粒度或粒度分布必须小心地进行控制以免在抛光面上产生刮痕。CMP浆料的分散稳定性和保存期也是必须被认真考虑的重要环节。这种纳米浆料的使用浓度一般在(5-30W%)，容易聚集。随着贮存时间延长，它的粒度可能增大从而导致损害的产生。驰光机电科技有限公司和客户携手诚信合作，共创辉煌！广东粒度分析仪报价

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C-Quand在线EDXRF分析仪在PTA工艺中的应用，产品综述：精对苯二甲酸，英文名简称为PTA，它是聚酯生产链的重要组成部分，是中国重要的化工原料。PTA可用于生产聚酯，合成纤维和增塑剂等，它们大量用于工业塑料，薄膜，涂料和其他领域。作为纺织化纤和石油化工两大行业的重要中间体，PTA起着重要的承上启下作用。测量的必要性：通过添加醋酸钴和醋酸锰以及四溴乙烷催化剂，对二甲苯氧化可以制取苯二甲酸（TA）。如果能够对催化剂元素含量（钴、锰和溴Br）进行连续在线分析，可以更好地控制工艺上海CPS高精度纳米粒度分析仪报价