黑龙江纳米压印有谁在用

时间:2020年02月28日 来源:

EVG ® 720特征:

体积验证的压印技术,具有出色的复制保真度

专有SmartNIL ®技术,多使用聚合物印模技术

集成式压印,UV固化脱模和工作印模制造

盒带到盒带自动处理以及半自动研发模式

可选的顶部对准

可选的迷你环境

适用于所有市售压印材料的开放平台

从研发到生产的可扩展性

系统外壳,可实现比较好过程稳定性和可靠性技术数据

晶圆直径(基板尺寸)

75至150毫米

解析度:≤40 nm(分辨率取决于模板和工艺)

支持流程:SmartNIL ®

曝光源:大功率LED(i线)> 400 mW /cm²

对准:可选的顶部对准

自动分离:支持的

迷你环境和气候控制:可选的

工作印章制作:支持的


EVG开拓了这种非常规光刻技术,拥有多年技术,掌握了NIL,并已在不断增长的基板尺寸上实现了批量生产。黑龙江纳米压印有谁在用

黑龙江纳米压印有谁在用,纳米压印

EVG ® 7200 LA特征:

专有SmartNIL ®技术,提供了****的印迹形大面积

经过验证的技术,具有出色的复制保真度和均匀性

多次使用的聚合物工作印模技术可延长母版使用寿命并节省大量成本

强大且精确可控的处理

与所有市售的压印材料兼容


EVG ® 7200 LA技术数据:

晶圆直径(基板尺寸):直径200毫米(比较大Gen3)(550 x 650毫米)

解析度:40 nm-10 µm(分辨率取决于模板和工艺)

支持流程:SmartNIL ®

曝光源:大功率窄带(> 400 mW /cm²)

对准:可选的光学对准:≤±15 µm

自动分离:支持的

迷你环境和气候控制:可选的


工作印章制作:支持的


原装进口纳米压印技术支持HERCULES NIL 300 mm提供市场上**纳米压印功能,具有较低的力和保形压印,快速高功率曝光和平滑压模分离。

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UV纳米压印光刻

EV Group提供完整的UV纳米压印光刻(UV-NIL)产品线,包括不同的***积压印系统,大面积压印机,微透镜成型设备以及用于高 效母版制作的分步重复系统。除了柔软的UV-NIL,EVG还提供其专有的SmartNIL技术以及多种用途的聚合物印模技术。高 效,强大的SmartNIL工艺可提供高图案保真度,高度均匀的图案层和**少的残留层,并具有易于扩展的晶圆尺寸和产量。EVG的SmartNI技术达到了纳米压印的长期预期,即纳米压印是一种用于大规模生产微米和纳米级结构的高性能,低成本和具有批量生产能力的技术。


EVG ® 620 NT是智能NIL ® UV纳米压印光刻系统。

用UV纳米压印能力为特色的EVG's专有SmartNIL通用掩模对准系统®技术,在100毫米范围内。

EVG620 NT以其灵活性和可靠性而闻名,它以**小的占位面积提供了***的掩模对准技术。操作员友好型软件,**短的掩模和模具更换时间以及有效的全球服务支持使它们成为任何研发环境(半自动批量生产)的理想解决方案。该工具支持多种标准光刻工艺,例如真空,软,硬和接近曝光模式,以及背面对准选项。此外,该系统还为多功能配置提供了附加功能,包括键对准和纳米压印光刻。此外,半自动和全自动系统配置均支持EVG专有的SmartNIL技术。


纳米压印设备哪个好?预墨印章可用于将材料以明显的图案转移到基材上。

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纳米压印光刻(NIL)技术

EVG是纳米压印光刻(NIL)设备和集成工艺的市场**供应商。EVG从19年前的研究方法中率先并掌握了NIL,并实现了从2英寸化合物半导体晶圆到300 mm晶圆甚至大面积面板的各种尺寸基板的批量生产。NIL是产生纳米尺度分辨率图案的**有前途且相当有成本效益的工艺,可用于生物MEMS,微流体,电子学以及**近各种衍射光学元件的各种商业应用。


其中EVG紫外光纳米压印系统型号包含:

EVG®610

EVG®620NT

EVG®6200NT

EVG®720

EVG®7200

EVG®7200LA

HERCULES®NIL

EVG®770

IQAligner®


热压纳米压抑系统型号包含:

EVG®510HE

EVG®520HE


详细的参数,请联系我们岱美有限公司。


IQ Aligner UV-NIL是自动化紫外线纳米压印光刻系统,是用于晶圆级透镜成型和堆叠的高精度UV压印的系统。官方授权经销纳米压印有哪些应用

EVG ® 7200是自动SmartNIL ® UV纳米压印光刻系统。黑龙江纳米压印有谁在用

纳米压印光刻(NIL) -SmartNIL ®

用于大批量生产的大面积软UV纳米压印光刻工艺

介绍:

EVG是纳米压印光刻(NIL)的市场**设备供应商。EVG开拓了这种非常规光刻技术多年,掌握了NIL并已在不断增长的基板尺寸上实现了批量生产。EVG的专有SmartNIL技术通过多年的研究,开发和现场经验进行了优化,以解决常规光刻无法满足的纳米图案要求。SmartNIL可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印结果。

如果要获得详细信息,请联系我们岱美仪器技术服务有限公司或者访问官网。


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岱美仪器技术服务(上海)有限公司坐落在金高路2216弄35号6幢306-308室,是一家专业的磁记录、半导体、光通讯生产及测试仪器的批发、进出口、佣金代理(拍卖除外)及其相关配套服务,国际贸易、转口贸易,商务信息咨询服务 公司。公司目前拥有11~50人员工,为员工提供广阔的发展平台与成长空间,为客户提供高质高效的产品服务,深受员工与客户好评。公司以诚信为本,业务领域涵盖[ "半导体工艺设备", "半导体测量设备", "光刻机 键合机", "膜厚测量仪" ],我们本着对客户负责,对员工负责,更是对公司发展负责的态度,争取做到让每位客户满意。目前公司已经成为[ "半导体工艺设备", "半导体测量设备", "光刻机 键合机", "膜厚测量仪" ]的**企业,正积蓄着更大的能量,向更广阔的空间、更***的领域拓展。

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