陕西光刻机学校会用吗

时间:2020年05月05日 来源:

EVG ® 120--光刻胶自动化处理系统

EVG ® 120是用于当洁净室空间有限,需要生产一种紧凑的,节省成本光刻胶处理系统。

新型EVG120通用和全自动光刻胶处理工具能够处理各种形状和尺寸达200 mm / 8“的基板。新一代EVG120采用全新的超紧凑设计,并带有新开发的化学柜,可用于外部存储化学品,同时提供更高的通量能力,针对大批量客户需求进行了优化,并准备在大批量生产(HVM)中使用EVG120为用户提供了一套详尽的好处,这是其他任何工具所无法比拟的,并保证了最/高的质量各个应用领域的标准,拥有成本却非常低。


EVG®620 NT / EVG®6200 NT 掩模对准系统(自动化和半自动化)支持的晶圆尺寸 :150 mm / 200 mm。陕西光刻机学校会用吗

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EVG ® 610曝光源:

汞光源/紫外线LED光源

楔形补偿

全自动软件控制

晶圆直径(基板尺寸)

高达100/150/200毫米


曝光设定:

真空接触/硬接触/软接触/接近模式

曝光选项:

间隔曝光/洪水曝光/扇区曝光

先进的对准功能:

手动对准/原位对准验证

手动交叉校正

大间隙对准


EVG ® 610光刻机系统控制:

操作系统:Windows

文件共享和备份解决方案/无限制程序和参数

多语言用户GUI和支持:CN,DE,FR,IT,JP,KR

实时远程访问,诊断和故障排除

使用的纳米压印光刻技术为“无紫外线” 广西光刻机质量怎么样EVG100光刻胶处理系统可以处理多种尺寸的基板,直径从2寸到300 mm。

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EVG曝光光学:专门开发的分辨率增强型光学元件(REO)可提供高出50%的强度,并显着提高/分辨率,在接近模式下可达到小于3μm的分辨率。REO的特殊设计有助于控制干涉效应以获得分辨率。EVG最/新的曝光光学增强功能是LED灯设置。低能耗和长寿命是UV-LED光源的最/大优势,因为不需要预热或冷却。在用户软件界面中可以轻松、实际地完成曝光光谱设置。此外,LED需要*在曝光期间供电,并且该技术消除了对汞灯经常需要的额外设施(废气,冷却气体)和更换灯的需要。这种理想的组合不仅可以最/大限度地降低运行和维护成本,还可以增加操作员的安全性和环境友好性。

EVG的掩模对准系统含有:EVG610;EVG620 NT半自动/全自动掩模对准系统;EVG6200 NT半自动/全自动掩模对准系统;IQ Aligner 自动掩模对准系统;IQ Aligner NT自动掩模对准系统;


【EVG ® 610掩模对准系统】EVG

® 610是一个紧凑的和多用途R&d系统,可以处理小基板片和高达200毫米的晶片。

EVG ® 610技术数据:EVG610支持多种标准光刻工艺,例如真空,硬,软和接近曝光模式,并可选择背面对准功能。此外,该系统还提供其他功能,包括键合对准和纳米压印光刻(NIL)。EVG610提供快速的处理和重新安装工具,可满足用户需求的变化,转换时间不到几分钟。其先进的多用户概念可以适应从初学者到**级别的所有需求,因此使其非常适合大学和研发应用。 EVG的代理商岱美仪器能在全球范围内提供服务。

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EVG ® 150光刻胶处理系统分配选项:

各种光刻胶分配泵,可覆盖高达52000 cP的粘度

液体底漆/预湿/洗盘

去除边缘珠(EBR)/背面冲洗(BSR)

恒压分配系统/注射器分配系统

电阻分配泵具有流量监控功能

可编程分配速率/可编程体积/可编程回吸

超音波

附加模块选项

预对准:光学/机械

ID读取器:条形码,字母数字,数据矩阵


系统控制:

操作系统:Windows

文件共享和备份解决方案/无限制 程序和参数/离线程序编辑器

灵活的流程定义/易于拖放的程序编程

并行处理多个作业/实时远程访问,诊断和故障排除

多语言用户GUI和支持:CN,DE,FR,IT,JP,KR HERCULES光刻机系统:全自动光刻跟/踪系统,模块化设计,用于掩模和曝光,集成了预处理和后处理能力。MEMS光刻机中芯在用吗

EVG101光刻胶处理机可支持最/大300 mm的晶圆。陕西光刻机学校会用吗

EVG ® 101--先进的光刻胶处理系统

主要应用:研发和小规模生产中的单晶圆光刻胶加工


EVG101光刻胶处理系统在单腔设计中执行研发类型的工艺,与EVG的自动化系统完全兼容。EVG101光刻胶处理机支持最/大300 mm的晶圆,并可配置用于旋涂或喷涂以及显影应用。通过EVG先进的OmniSpray涂层技术,在互连技术的3D结构晶圆上获得了光致光刻胶或聚合物的保形层。这确保了珍贵的高粘度光刻胶或聚合物的材料消耗降低,同时提高了均匀性和光刻胶铺展选择。这**地节省了用户的成本。


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