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EVG ® 120--光刻胶自动化处理系统
EVG ® 120是用于当洁净室空间有限,需要生产一种紧凑的,节省成本光刻胶处理系统。
新型EVG120通用和全自动光刻胶处理工具能够处理各种形状和尺寸达200 mm / 8“的基板。新一代EVG120采用全新的超紧凑设计,并带有新开发的化学柜,可用于外部存储化学品,同时提供更高的通量能力,针对大批量客户需求进行了优化,并准备在大批量生产(HVM)中使用EVG120为用户提供了一套详尽的好处,这是其他任何工具所无法比拟的,并保证了最/高的质量各个应用领域的标准,拥有成本却非常低。
EVG同样为客户提供量产型掩模对准系统。中国澳门光刻机联系电话
EVG ® 620 NT 掩模对准系统(半自动/自动)
特色:EVG ® 620 NT提供国家的本领域掩模对准技术在最小化的占位面积,支持高达150毫米晶圆尺寸。
技术数据:EVG620 NT以其多功能性和可靠性而著称,在最小的占位面积上结合了先进的对准功能和最/优化的总体拥有成本,提供了最/先进的掩模对准技术。它是光学双面光刻的理想工具,可提供半自动或自动配置以及可选的全覆盖Gen 2解决方案,以满足大批量生产要求和制造标准。拥有操作员友好型软件,最短的掩模和工具更换时间以及高/效的全球服务和支持,使它成为任何制造环境的理想解决方案。 中国澳门光刻机价格怎么样OmniSpray涂层技术是对高形晶圆表面进行均匀涂层。
EVG620 NT特征2:
自动原点功能,用于对准键的精确居中
具有实时偏移校正功能的动态对准功能
支持最/新的UV-LED技术
返工分拣晶圆管理和灵活的盒式系统
自动化系统上的手动基板装载功能
可以从半自动版本升级到全自动版本
最小化系统占地面积和设施要求
多用户概念(无限数量的用户帐户和程序,可分配的访问权限,不同的用户界面语言)
先进的软件功能以及研发与全/面生产之间的兼容性
便捷处理和转换重组
远程技术支持和SECS / GEM兼容性
EVG620 NT附加功能:
键对准
红外对准
纳米压印光刻(NIL)
EVG ® 6200 NT掩模对准系统(半自动/自动)
特色:EVG ® 6200 NT掩模对准器为光学双面光刻的多功能工具和晶片尺寸高达200毫米。
技术数据:EVG6200 NT以其自动化灵活性和可靠性而著称,可在最小的占位面积上提供最/先进的掩模对准技术,并具有最/高的产能,先进的对准功能和优化的总拥有成本。操作员友好型软件,最短的掩模和工具更换时间以及高/效的全球服务和支持使它成为任何制造环境的理想解决方案。EVG6200 NT或完全安装的EVG6200 NT Gen2掩模对准系统有半自动或自动配置,并配有集成的振动隔离功能,可在广/泛的应用中实现出色的曝光效果,例如薄和厚光刻胶的曝光,深腔和类似地形的图案,以及薄而易碎的材料(例如化合物半导体)的加工。此外,半自动和全自动系统配置均支持EVG专有的SmartNIL技术。 在全球范围内,我们为许多用户提供了量产型的光刻机系统,并得到了他们的无数好评。
EVG ® 150特征:晶圆尺寸可达300毫米
多达6个过程模块
可自定义的数量-多达20个烘烤/冷却/汽化堆
多达四个FOUP装载端口或盒式磁带装载
可用的模块包括旋转涂层,喷涂,NanoCoat™,显影,烘烤/冷却/蒸气/上等
EV集团专有的OmniSpray ®超声波雾化技术提供了无与伦比的处理结果,当涉及到极端地形的保形涂层
可选的NanoSpray™模块实现了300微米深图案的保形涂层,长宽比最/高为1:10,垂直侧壁
广/泛的支持材料
烘烤模块温度高达250°C
Megasonic技术用于清洁,声波化学处理和显影,可提高处理效率并将处理时间从数小时缩短至数分钟
IQ Aligner光刻机支持的晶圆尺寸高达200 mm / 300 mm。EVG6200光刻机推荐产品
只有以客户的需求为导向,研发才具有价值,也是我们不断前进的动力。中国澳门光刻机联系电话
EVG120光刻胶自动处理系统:
智能过程控制和数据分析功能(框架软件平台)
用于过程和机器控制的集成分析功能
并行任务/排队任务处理功能
设备和过程性能跟/踪功能
智能处理功能:
事/故和警报分析/智能维护管理和跟/踪
晶圆直径(基板尺寸):高达200毫米
模块数:
工艺模块:2
烘烤/冷却模块:最多10个
工业自动化功能:Ergo装载盒式工作站/
SMIF装载端口/ SECS / GEM / FOUP装载端口
分配选项:
各种光刻胶分配泵,可覆盖高达52000 cP的粘度
液体底漆/预湿/洗盘
去除边缘珠(EBR)/背面冲洗(BSR)
恒压分配系统/注射器分配系统
电阻分配泵具有流量监控功能
可编程分配速率/可编程体积/可编程回吸
超音波
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岱美仪器技术服务(上海)有限公司是一家磁记录、半导体、光通讯生产及测试仪器的批发、进出口、佣金代理(拍卖除外)及其相关配套服务,国际贸易、转口贸易,商务信息咨询服务 的公司,致力于成为客户业务创新、仪器仪表可信赖的合作伙伴。岱美中国拥有一支经验丰富、技术创新的专业研发团队,以高度的专注和执着为客户提供[ "半导体工艺设备", "半导体测量设备", "光刻机 键合机", "膜厚测量仪" ]。公司终坚持自主研发创新发展理念,不断优化的技术、产品为客户带来效益,目前年营业额达到100-200万元。岱美中国创始人陈玲玲,始终关注客户,以优化创新的科技,竭诚为客户提供最好的服务。