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二关于二手半导体设备重要的来了，就是进入海关的旧机电系统去备案，查询设备是否需要装运前检验检疫，也就是行内常说的CCIC以及中检。（PS:部分的半导体设备是需要做CCIC的，所以要审视好设备的编码及功能原理）-a进口申请人必须填写《进口旧机电产品装运前检验备案书》，进行备案后，再能准备资料进行装运前检验检疫。-b-检验完成合格后，待检验检疫集团颁发《装运前检验检疫证书》，才能进行发货。-检验完毕后，根据CCIC老师的要求看是否需要进行整改，待无误后，确认CCIC证书草稿，缴纳检验费，出证。-待设备运至国内港口/机场，待接到船/航空公司到货通知书以及舱单信息，如是拼箱，则先进行分拨，如果是整柜，则直接进行船公司换单。报关单报检-报关-熏蒸消毒-海关查验设备的铭牌信息（原厂国、品牌、年份、型号、参数很重要！）-审价(旧设备进口价格过低导致)-缴税放行港交所（审价的噩梦）-货物拖到动卫检平台进行动卫检查验（查看铭牌信息是否符合要求）-商检调离（装运前检验检疫的复审，需要预约海关老师时间，去收货地进行通电检测查验，合格后算是进口流程的完成）一定注意商检调离前不可先拆箱，必须得老师到场才可拆箱做搬运及安装调试！否则会罚款！ 全球的半导体设备制造商主要分布在美国、荷兰、日本等地报关服务公司。威海有名的半导体设备进口报关打包运输

国内IC制造设备工艺覆盖率仍比较低，国产厂商技术加速追赶。国产全部IC设备在逻辑IC产线上65/55nm工艺覆盖率才31%，40nm工艺覆盖率17%，28nm工艺覆盖率16%;在存储芯片产线上的工艺覆盖率大概约为15-25%。随着摩尔定律放缓，国产厂商技术加速追赶。以北方华创刻蚀机为例，2007年研发出8寸100nm设备，比国际大厂晚8年;2011年研发出12寸65nm设备，比国际大厂晚6年;2013年研发出12寸28nm设备，比国际大厂晚3~4年;2016年研发12寸14nm设备，比国际大厂晚2~3年。、硅片制造设备、硅片制造难度大，设备种类多硅片是半导体、光伏电池生产的主要原材料，90%以上的集成电路都是制作在高纯、质量的硅片上的。(1)半导体硅片的制造难度大于光伏硅片。半导体硅片纯度要求达到99.%，即11个9以上，而普通太阳能级多晶硅材料纯度通常在5-8个9左右。(2)硅片直径越大制造难度越大。硅片制备工艺流程包括:单晶生长→截断→外径滚磨(定位槽或参考面处理)→切片→倒角→表面磨削→(刻蚀)→边缘抛光→双面抛光→单面抛光→终清洗→(外延/退火)→包装等。硅片直径的增大可降低单个芯片的制造成本，目00mm硅片已成为业内主流，2017年全球12寸出货面积约占硅片总体的。 杭州办理半导体设备进口报关服务热线光刻机进口清关公司、刻蚀机进口清关公司、晶圆封装设备进口清关公司。

Ebara拥有26%市场份额8）热处理：主要厂商有AMAT(应用材料)、日立国际电气、TEL(东京电子)9）去胶设备：主要厂商有PSK、Lam、日立高科技、屹唐半导体；10）划片/减薄机：日本DISCO垄断；11）量测设备：主要包括自动检测设备（ATE）、分选机、探针台等。前端检测设备，甲厂商科磊(KLA)市占率50%、应用材料市占率12%、日立高科技市占率10%，这三者累积市占率72%；后道测试设备厂商，包括美国泰瑞达、日本爱德万占全球份额64%；分选机厂商厂商，包括科林、爱德万、爱普生等市占率高达70%；而探针台基本由东京精密、东京电子、SEMES垄断。国内厂商长川科技测试设备主要在中低端市场，主要在数模混合测试机和功率测试机。其他包括上海睿励、中科飞测、上海精测半导体等12）真空设备：全球爱德华市占率超过50%、另外日本Ebara（荏原制造所）和Kashiyama（樫山工业株式会社）也占据了重要份额，国内是汉钟精机，其次是沈科仪。回看中国开放的40多年，中国制造业的崛起离不开装备设备行业的国产化。国外技术绝不轻易交出标志技术及生产能力制高点的装备技术，而没有的设备装备就像砍柴没有镰刀，发展及生产效率必然大打折扣。因此半导体设备国产化是中国半导体产业振兴的起点。

光刻机竞争格局步进扫描投影光刻机的主要生产厂商包括ASML(荷兰)、尼康(日本)、佳能(日本)和SMEE(中国)。ASML于2001年推出了TWINSCAN系列步进扫描光刻机，采用双工件台系统架构，可以有效提高设备产出率，已成为应用为的光刻机。ASML在光刻机领域一骑绝尘，一家独占全球70%以上的市场份额。国内厂商上海微电子(SMEE)研制的90nm步进扫描投影光刻机已完成整机集成测试，并在客户生产线上进行了工艺试验。、晶圆制造设备——刻蚀机、刻蚀原理及分类刻蚀是使用化学或者物理方法有选择地从硅片表面去除不需要材料的过程。通常的晶圆加工流程中，刻蚀工艺位于光刻工艺之后，有图形的光刻胶层在刻蚀中不会受到腐蚀源的侵蚀，从而完成图形转移的工艺步骤。刻蚀分为湿法刻蚀和干法刻蚀两种。早期普遍采用的是湿法刻蚀，但由于其在线宽控制及刻蚀方向性等多方面的局限，3μm之后的工艺大多采用干法刻蚀，湿法刻蚀用于某些特殊材料层的去除和残留物的清洗。干法刻蚀也称等离子刻蚀。干法刻蚀是指使用气态的化学刻蚀剂(Etchant)与圆片上的材料发生反应，以刻蚀掉需去除的部分材料并形成可挥发性的反应生成物，然后将其抽离反应腔的过程。 半导体设备中晶圆加工设备价值占比超过 80%，其余为封装和测试设备。在晶圆加工设备中， 光刻机、刻蚀机。

集成电路硅片生产以直拉法为主。将多晶硅拉制成单晶硅包括两种工艺，分别为区熔法与直拉法，其中，集成电路领域硅片主要采用直拉法制成。拉晶环节工序主要为将纯净硅加热成熔融状态→籽晶伸入装有熔融硅的旋转坩埚中→新晶体在初期籽晶上均匀延伸生长→生产单晶硅锭。晶圆制造设备占设备投资总额约3%~5%。正如本文，2018年全球集成电路设备价值构成中，晶圆加工设备、晶圆制造设备占比分别为81%、4%。具体来看，晶圆制造设备包括单晶炉、切割机、滚圆机、截断机、研磨系统、倒角机、刻蚀机、抛光机、清洗设备、检测设备等。其中，单晶炉、CMP抛光机分别占晶圆制造设备额约25%、25%。单晶炉由炉体、热场、磁场、控制装置等部件构成，其中，控制炉内温度的热场与控制晶体生长形状的磁场为决定单晶炉性能的关键指标之一。竞争格局:内资供应商在太阳能单晶炉领域已具备完全竞争力，其中，综合实力居前企业包括晶盛机电、南京晶能等。另一方面，国内集成电路领域能够供应12英寸单晶炉的供应商目前数量尚小。光刻机进口报关注意问题、二手半导体设备气垫车服务、口岸海关对进口半导体设备清关要求。海口半导体设备进口报关气垫车

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市场主要集中在中国台湾及大陆地区近些年，在全球半导体设备消费市场中，中国大陆，中国台湾，韩国这三大市场一直排在位。其中，中国大陆相当有发展潜力，从前些年的第三，到近一年的第二，一直处于上升态势。具体来看，2019年，中国台湾是半导体设备的比较大市场，销售额增长了68%，达到，占全球市场的比重为。中国大陆则以，占比为。排名第三的是韩国，销售额为，同比下降44%，占比为。2020年一季度，排名的仍是中国台湾、中国大陆以及韩国，销售额占比分别为、、。日美荷品牌占领前位目前全球半导体设备市场集中度较高，以美国、荷兰、日本为的0企业垄断了全球半导体设备市场90%以上的份额。美国设备公司应用材料、泛林半导体、泰瑞达、科天半导体合计占据整个设备市场40%以上份额，而且均处于薄膜、刻蚀、前后道检测三大细分领域的地位。技术和近半的市场占有率，任何半导体制造企业都很难完全脱离美国半导体设备供应体系。未来规模预计超千亿从整体来看，尽管受的影响，半导体行业及半导体设备行业依然逆势增长。存储器支出回升、先进制程投资及中国大陆积极推动半导体投资的背景下，预计2020年全球半导体设备市场将持续保持增长，市场规模预计达到632亿美元。 威海有名的半导体设备进口报关打包运输

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