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自国际贸易环境发生本质转变以来,西方国家对于中国半导体产业的全产业链进行,企图遏制中国高新技术产业的崛起,我们现在所面临的外部环境像极了上世纪80年代崛起的日本。在当下的时点,国内各方对于中美硬脱钩尚存在争议,但在关键领域内实现国产替代已经成为一个共识,特别是以半导体和芯片为的前列科技,在之前的文章中《每日财报》已经对于半导体全产业链的情况进行了介绍。我们重点来向大家介绍其中的一个细分领域——半导体检测设备,这也是目前国内相对薄弱但未来存在上升空间的环节。广义上的半导体检测设备,分为前道量测(半导体量测设备)和后道测试(半导体测试设备)。前道量检测主要用于晶圆加工环节,目的是检查每一步制造工艺后晶圆产品的加工参数是否达到设计的要求或者存在影响良率的缺陷,属于物理性的检测;半导体后道测试设备主要是用在晶圆加工之后、封装测试环节内,目的是检查芯片的性能是否符合要求,属于电性能的检测。行业的整体格局半导体检测设备采购需求直接取决于下游半导体厂商的资本开支,而半导体厂商的资本开支直接依赖下游终端需求,产业链上下游休戚与共。从纵向的历史角度来看。半导体设备价格昂贵。荷兰服务好的半导体设备进口报关中检服务
中国电子设备工业协会统计的数据包括LED、显示、光伏等设备,我们认为实际上国内集成电路IC设备国内市场自给率有5%左右,在全球市场占1-2%。02专项顶层设计,技术加速追赶。2002年之前,我国集成电路设备基本全进口,中国只有3家集成电路设备厂商,由北方微电子、北京中科信和上海微电子分别承接国家“863”计划中的刻蚀机、离子注入机和光刻机项目。2006年,《国家中长期科学和技术发展规划纲要(2006-2020年)》设立国家科技重大专项——极大规模集成电路制造装备及成套工艺科技项目(简称02专项)研发国产化设备,并于2008年开始实施。2008年之前我国12英寸国产设备为空白,只有2种8英寸设备。在02专项的统筹规划下,国内半导体厂商分工合作研发不同设备,涵盖了主要设备种类。目前已有20种芯片制造关键装备、17种先进封装设备,通过大生产线验证进入海内外销售。宁波服务好的半导体设备进口报关热线上海进口半导体设备进口清关、天津进口晶圆设备进口报关、江苏进口晶圆设备报关、晶圆设备报关服务公司。
产业链中游企业下游企业都是大众接触的公司,包含了手机厂商苹果、三星、华为等,汽车领域的特斯拉、比亚迪,个人电脑领域的联想、惠普等,另外还有物联网、医疗电子等应用领域。图三:下游企业,芯片应用领域和公司在半导体行业景气度高企,物联网、5G、AI、汽车电子等创新应用驱动下,国家政策大力支持,产业逐渐向国内转移,国产化替代加速的大背景下,国内半导体产业快速发展,相关公司有望深度收益。设计:兆易创新,紫光国芯,圣邦股份;制造:中芯国际;封测:长电科技,华天科技;分立器件:扬杰科技;设备:北方华创,长川科技;材料:江丰电子,上海新阳。1)兆易创新:NorFlash&DRAM公司是中国的存储芯片全平台公司。主要产品为NORFlash、NANDFlash及MCU,广泛应用于手持移动终端、消费类电子产品、个人电脑及周边、网络、电信设备、医疗设备、办公设备、汽车电子及工业控制设备等各个领域。牵手合肥产投,进军DRAM领域。公司2017年10月与合肥产投签署了《关于存储器研发项目之合作协议》,将开展19nm制程工艺存储器(含DRAM等)的研发项目,预算约为180亿元人民币,目标是在2018年底前研发成功。入股中芯国际,战略合作形成虚拟IDM。2017年11月。
北方华创的8英寸等离子蚀刻机进入中芯国际,封装环节刻蚀机基本实现国产化,国产化率近90%。3)薄膜设备(气象沉积)市场规模约145亿美元。CVD主要厂商为日立、Lam(泛林集团)、TEL(东京电子)、AMAT(应用材料)等占据超70%的市场。PVD被AMAT(应用材料)、Evatec、Ulvac占据90%市场份额;国内厂商北方华创实现28nmPVD设备的突破,封装设备国产PVD市占率接近70%。CVD中的MOCVD是目前中微半导体已取得重要突破,目前已有20%的国产化率。4)显影设备:全球供应商为TEL(东京电子),目前国内沈阳芯源有中低端产品。5)离子注入机:AMAT(应用材料)拥有约70%以上的市场,AxcelisTechnologies拥有18%市场份额,家包揽97%市场份额。目前国内只有凯世通和中科信有离子注入机的研发生产能力,17年凯世通已经销售太阳能离子注入机15台。6)清洗设备:主要设备厂商SCREEN、东京电子、LAM合计占比88%,目前国内的盛美半导体的SAPS产品已经进入前列半导体制造商产线。北方华创整合Akrion后提供单片清洗和槽式清洗设备,已经进入中芯国际产线。至纯科技已经取得湿法清洗设备的批量订单,未来五年超过200台的订单。7)CMP(化学机械抛光):AMAT(应用材料)拥有70%市场份额。根据进口商品的HS编码,确定关税税率和进口环节所需的其他税费。
扩散炉分类及竞争格局扩散炉用于分立器件、电力电子、光电器件和光导纤维等行业的扩散、氧化、退火、合金等工艺中,因此按照功能不同,有时也称扩散炉为退火炉、氧化炉。扩散炉主要分为卧式扩散炉和立式扩散炉。卧式扩散炉是一种在圆片直径小于200mm的集成电路扩散工艺中大量使用的热处理设备,其特点是加热炉体、反应管及承载圆片的石英舟(QuartzBoat)均呈水平放置,因而具有片间均匀性好的工艺特点。、离子注入机分类及竞争格局离子注入机是集成电路装备中较为复杂的设备之,根据注入离子的能量和剂量的不同,离子注入机大体分为低能大束流离子注入机、中束流离子注入机和高能离子注入机3种类型。其中,低能大束流离子注入机是目前占有率比较高的注入机,适用于大剂量及浅结注入,如源漏极扩展区注入、源漏极注入、栅极掺杂以及预非晶化注入等多种工艺。中束流离子注入机可应用于半导体制造中的沟道、阱和源漏极等多种工艺。高能离子注入机在逻辑、存储、成像器件、功率器件等领域应用。、晶圆制造设备——湿法设备湿法工艺是指在集成电路制造过程中需要使用化学药液的工艺,主要有湿法清洗、化学机械抛光和电镀三大类。、湿法清洗机湿法清洗是指针对不同的工艺需求。前端晶圆制造:单晶炉/多晶炉、硅棒研磨机、晶圆切片机、晶圆倒角机、晶圆研磨机、扩散炉、物相沉淀设备。荷兰服务好的半导体设备进口报关中检服务
半导体进口报关是指将半导体产品从国外进口到中国时,需要进行报关手续。荷兰服务好的半导体设备进口报关中检服务
以台积电为例,每个节点的投资额迅速攀升,其中16nm制程1万片/月产能投资15亿美元,7nm制程1万片/月产能投资估计30亿美元,5nm制程1万片/月产能投资估计50亿美元,而3nm则预估需要100亿美元。拆分细分半导体设备投资占比。光刻、沉积、刻蚀和清洗等投资占比较高根据SEMI历史数据,按照产业链上下游来看晶圆制造及处理设备类投资金额比较大,占总设备投资的81%;封测环节设备投资约占总设备投资的15%,晶圆制造及处理设备为半导体行业中固定资产的。晶圆制造设备投资中主要分为光刻机、刻蚀机、薄膜设备、扩散\离子注入设备、湿法设备、过程检测等六大类设备,其中光刻、刻蚀和薄膜沉积设备等占比较高,光刻机约占总体设备销售额的30%,刻蚀约占20%,薄膜沉积设备约占25%(PVD15%、CVD10%)。半导体设备投资按产业链环节分类(亿美元)全球半导体设备市场集中度较高,主要设备CR4达57%。主要设备领域仍然海外厂商主导,2018年全球半导体设备厂商CR4达到57%,CR10达到78%,市场集中度相对较高。国内设备厂家在单晶炉、刻蚀、沉积、划片、减薄等环节实现逐步突破,多个中产业链环节依赖国外进口。荷兰服务好的半导体设备进口报关中检服务
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