上海钻石抛光液价格
多晶金刚石抛光液
多晶金刚石抛光液以多晶金刚石微粉为主要成分，配合**散性配方，可以在保持高切削率的同时不易对研磨材质产生划伤。
主要应用于蓝宝石衬底的研磨、LED芯片的背部减薄、光学晶体以及硬盘磁头等的研磨和抛光。
氧化硅抛光液（CMP抛光液）
CMP抛光液是以高纯硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。 ***用于多种材料纳米级的高平坦化抛光，如：硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟，精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。
氧化铈抛光液
氧化铈抛光液是以微米或亚微米级CeO2为磨料的氧化铈研磨液，该研磨液具有分散性好、粒度细、粒度分布均匀、硬度适中等特点。 适用于高精密光学仪器，光学镜头，微晶玻璃基板，晶体表面、集成电路光掩模等方面的精密抛光。
氧化铝和碳化硅抛光液
是以超细氧化铝和碳化硅微粉为磨料的抛光液，主要成分是微米或亚微米级的磨料。 主要用于高精密光学仪器、硬盘基板、磁头、陶瓷、光纤连接器等方面的研磨和抛光。 非结晶***抛光液具有弱碱性，经过抛光方法与外表形成反应层，柔软的***去除反应层，可得到高质量的外表。上海钻石抛光液价格
氧化铈抛光液
1、产品名称 稀土抛光液
2、产品型号 hnys-ceria-1
3、用途 用于手机玻璃、精密光学玻璃抛光
4、技术指标
化学成分 含量
稀土抛光粉 30-40%
去离子水 60-70%
其他成分 ≤3%
化学或物理指标 数据
D50 0.4-0.6µm D90 ≤1.5µm
比重 ≥1.20g/cm3
pH值 8.0-9.5
颜色 白色
备注：以上参数可根据用户要求适当调整。
5、包装规格 20公斤/桶、50公斤/桶 6、注意事项 使用前请摇匀或搅拌均匀；抛光前可加水稀释1-2倍后再使用，具体稀释比例根据用户现场工艺与设备自行确定。 临沂研磨抛光用抛光液厂商氧化铝抛光液凭仗较高的抛光速率在蓝宝石抛光液中有很好的运用远景。
玻璃抛光液简介
玻璃抛光液用于抛光蒙砂玻璃与喷砂玻璃,以加深玻璃的无手印效果，手感光滑，颗粒感可以随意由操作时间而调整，无手印效果明显，可以加深无手印的效果，适用于生产各种移门，抛光后的玻璃表面光滑但颗粒感强.抛光工艺简单易操作。它适用于各类超硬玻璃，例如，水晶工艺品玻璃，高铅玻璃，高硼玻璃，微晶玻璃，光学石英玻璃等等，这类玻璃的特点是化学稳定性好，硬度很高，用普通抛光液进行处理的时候费时费力，而且很容易造成缺点，而玻璃抛光液DF-808由于添加了有机促进剂，抛光时间很短，一般在5分钟内即可完成，抛光后的玻璃明亮清透，不留瑕疵。玻璃抛光液是东莞澳达化工专为手机表面而研发的其操作简便，可视污渍的多少只需将玻璃抛光液用超声清洗、自动浸泡或手洗即可彻底清洁手机表面的各种污渍且不伤手机。 玻璃抛光液具有抛光速度快、使用寿命长、良好的悬浮性、不沾附、能适合于各种材料的抛光,适合于抛光高精密玻璃,能有效解决材质划伤和抛光粉堆积造成的表面斑点现象。
化学机械抛光液作为半导体工艺中的辅助材料，主要应用于抛光片和分立器 件制造过程中的抛光过程。因此，抛光液主要应用于半导体行业（抛光片和分立器件）、集成电路行业和电子信息产业。
化学机械抛光技术是半导体晶片表面加工的关键技术之一，并用于集成电路制造过程的各阶段表面平整化，而抛光液对抛光效率和加工质量有着重要的影响，但由于具有很高的技术要求，目前商业化的抛光液配方处于完全保密状态，主要集中在美国、日本、韩国。这也导致在我国半导体硅抛光片加工中，所使用的抛光液绝大多数都要靠进口。尽管我国目前在抛光液行业现已发展到有几十家的企业，但是真正涉足到半导体硅片抛光液制造、研发方面的企业很少。无论是产品质量上、还是在市场占有率方面，国内企业都表现出与国外厂家具有相当的差距。 本公司销售的纳米抛光液应用范围：单晶、红宝石、蓝宝石、白宝石、钇铝石榴石。
集成电路铜互连一步化学机械抛光工艺及相应纳米抛光液:一种用于集成电路多层互连结构铜/钽化学机械抛光(CMP)的一步抛光工艺技术及相应纳米抛光液。对于互连结构的铜/钽多层膜体系的化学机械抛光,通过本发明的“一步抛光工艺”,单头抛光机能够代替昂贵的多头抛光机,实现多层膜的分步抛光。通过化学机械抛光过程中多层膜体系界面间在线检测信号(声学、力学、电学或光学信号)差异的反馈,对抛光液实施分段应用,有效改善了原有的单一抛光液或分步抛光中存在的低速率及选择性问题。该抛光工艺及相应纳米抛光液有效改善了单一抛光液的速率问题;以单头抛光机代替多头抛光机,降低了设备成本;同时抛光后表面损伤少、易清洗,抛光液不腐蚀设备、不污染环境。单晶金刚石 抛光液具有良好的切削力，适用于超硬材料的研磨 抛光。河南钻石抛光液性能
氧化铝抛光液主要用于高精密光学仪器、硬盘基板、磁头、陶瓷、光纤连接器等方面的研磨和抛光。上海钻石抛光液价格
在化学机械抛光中运用的氧化铝磨料，常选用硬度大、性能安稳、不溶于水、不溶于酸碱的纳米α-Al2O3。作为化学机械抛光磨料，氧化铝颗粒的巨细、形状、粒度散布都影响抛光效果。在LED行业，CMP抛光液中常选用粒径50∼200 nm、粒径散布均匀的纳米α-Al2O3。近年来对α-Al2O3磨料颗粒的研讨主要会集在纳米级球形颗粒的制备上。常见制备办法有以下几种。
固相法。其间的硫酸铝铵热解法、改进拜尔法、法等是比较老练的制备办法。固相法制备超细粉体的流程简单，无需溶剂，产率较高，但生成的粉体易发作聚会，且粒度不易操控，难以得到散布均匀的小粒径的高质量纳米粉体。
气相法。主要有化学气相沉淀法，经过加热等方式改动物质形态，在气体状态下发作反响，之后在冷却进程中形成颗粒。气相法的长处是反响条件能够操控、产品易精制，颗粒涣散性好、粒径小、散布窄，但产出率低，粉末难搜集。
液相法。常见的有水解、喷雾干燥、溶胶凝胶、乳化等几种办法。液相法的长处体现在：可准确操控产品的化学组成，纳米粒子的外表活性高，形状简单操控涣散均匀，生产成本比较低，简单实现工业化生产。
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苏州豪麦瑞材料科技有限公司总部位于苏州市工业园区唯华路3号君地商务广场5栋602室，是一家苏州豪麦瑞材料科技有限公司（Homray Material Company）成立于2014年，是由一群在半导体行业从业多年的专业团队所组成，专注于半导体技术和资源的发展与整合，现以进口碳化硅晶圆，供应切割、研磨及抛光等相关制程的材料与加工设备，氧化铝研磨球，氧化锆研磨球，陶瓷研磨球，陶瓷精加工，抛光液。的公司。豪麦瑞材料科技深耕行业多年，始终以客户的需求为向导，为客户提供***的陶瓷研磨球，碳化硅，陶瓷精加工，抛光液。豪麦瑞材料科技始终以本分踏实的精神和必胜的信念，影响并带动团队取得成功。豪麦瑞材料科技始终关注化工行业。满足市场需求，提高产品价值，是我们前行的力量。