磁控溅射无纺布镀铝膜工厂

时间:2020年10月19日 来源:

真空镀铝膜是通过真空镀铝工艺将高纯度的铝丝在高温(1100~1200℃)下蒸发成气态,之后塑料薄膜经过真空蒸发室时,气态的铝分子沉淀到塑料薄膜表面而形成的光亮金属色彩的薄膜。真空镀铝膜是采用特殊工艺在塑料薄膜表面镀上一层极薄的金属铝而形成的一种复合软包装材料,其中极常用的加工方法当数真空镀铝法,就是在高真空状态下通过高温将金属铝融化蒸发,使铝的蒸汽沉淀堆积到塑料薄膜表面上,从而使塑料薄膜表面具有金属光泽。由于它既具有塑料薄膜的特性,又具有金属的特性。真空镀铝膜具有价廉、美观及较好的阻隔性能。磁控溅射无纺布镀铝膜工厂

镀膜的溅射室的数量亦或溅射靶的数量,包括选用的靶材,取决于生产线开发膜系的能力和产量。磁控溅射靶的功率密度一般13W/cm2,比直流溅射要高得多。但实际的电源往往很难保证靶的功率。没有大的功率就没有高沉积速率,而高沉积速率是现代镀膜所推崇的。电源的并联是增强功率的一个途径。平面磁控靶的结构分为直冷式和间冷式两类。直冷式适合于气密性好的靶材。由于冷却效果好,功率更大一些。间冷式的适合于气密性较差的靶材,功率要小一些。靶内磁体目前更多采用的是钕铁硼永磁体,。上海磁控溅射无纺布镀铝膜反射镜真空镀铝膜的整体操作时有严格的规范的。

真空镀铝膜热变形后基材起皱,造成镀膜不均匀或破裂,达不到提高阻隔性能的效果,因此,软化点和熔点较低的塑料薄膜蒸镀效果较差。实验表明只有PP、PET、PA等材料才能较适合氧化物镀膜加工。涂布技术在真空镀铝膜中的应用将涂布技术与真空镀铝技术结合起来,通过在基材薄膜或镀铝薄膜上涂布功能层,以达到提高镀铝层的附着牢度、耐水煮性能、阻隔性能、装饰性能等,满足不同应用领域的要求。经过等离子预处理的真空镀铝薄膜虽然镀铝层牢度有了明显提高,但对于一些对镀铝层附着牢度要求更高。

真空镀铝膜流淌和涂覆不均匀往往会导致镀铝产品报废。涂覆件一定要有足够的干燥温度和时间,若干燥不好,耐高温试验会有镀铝面发雾或起皱纹等现象。真空镀铝膜时,工件装架不当会引起镀铝区域偏移而报废;若铝丝纯度不够或蒸发控制不当,蒸发中有杂质逸出会形成炸铝痕迹而残留于塑件表面;蒸发温度过高或过低、蒸发器表面温度不稳定都会在真空镀铝膜表面留下小颗粒白点(对着灯光观察);真空度不好会导致镀膜附着力不合格;镀膜流量控制不好也会导致镀膜发彩等。镀膜是在表面镀上非常薄的透明薄膜。

真空镀铝膜的目测估计法。如用两层真空镀铝膜叠在一起对着日光灯或对着天空看,以看不见光线为准,镀层厚度应达400Å以上,但这种方法很容易受眼睛视觉的影响,当把真空镀铝膜贴在眼前观看时,眼睛的瞳孔会随光线变暗而调整,本来看不见的光线在瞳孔调整后又将能看见。真空镀铝膜镀层的均匀度沿被测样品横向等距离地取8~10个规格为100mm×100mm的试样,用电阻测量仪分别测出方块的电阻值,取其算数平均值,即为该试样的镀层电阻,还可以计算其电阻值上、下偏差。真空镀铝膜其装潢效果是铝箔所不及的。上海磁控溅射无纺布镀铝膜反射镜

镀膜的材料本身是一种无机物,对膜本身没有损害。磁控溅射无纺布镀铝膜工厂

真空镀铝薄膜是在高真空条件下,以电阻、高频或电子束等加热方式使铝熔化蒸发,在薄膜基材的表面附着而形成复合薄膜的一种工艺。在塑料薄膜表面镀上一层极薄的金属铝即成为镀铝薄膜。用于包装上的真空镀铝薄膜具有铝材用量少、耐折叠性高、阻隔性能高、抗静电等特点,使镀铝薄膜成为一种性能优良、经济美观的新型复合薄膜,在许多方面已取代了铝箔复合材料。主要用于风味食品、日用品、农产品、药品、化妆品以及香yan的包装。我国是从上世纪九十年代开始引进国外设备进行真空镀铝薄膜生产的,经过二十多年的发展,真空镀铝膜产能已经达到40万吨,成为世界极大的真空镀铝膜生产基地。磁控溅射无纺布镀铝膜工厂

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