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时间:2020年11月12日 来源:

碳化硅(SIC)是半导体界公认的“一种未来的材料”,是新世纪有广阔发展潜力的新型半导体材料。预计在今后5~10年将会快速发展和有***成果出现。促使碳化硅发展的主要因素是硅(SI)材料的负载量已到达极限,以硅作为基片的半导体器件性能和能力极限已无可突破的空间。根据数据显示,碳化硅 (SiC)电力电子市场是具体而实在,且发展前景良好。这种趋势非但不会改变,碳化硅行业还会进一步向前发展。用户正在尝试碳化硅技术,以应用于具体且具有发展前景的项目。碳化硅可在超过200℃的高温下长期稳定地工作,因此,相比于硅,碳化硅方案可以大量缩减冷却负担。上海碳化硅衬底led

采用SiC的功率模块将进入诸如可再生能源、UPS电源、驱动器和汽车等应用。风电和牵引应用可能会随之而来。 到2021年,SiC功率器件市场总额预计将上升到10亿美元 。在某些市场,如太阳能,SiC器件已投入运行,尽管事实上这些模块的价格仍然比常规硅器件高。是什么使这种材料具有足够的吸引力,即使价格更高也心甘情愿地被接受?首先,作为宽禁带材料,SiC提供了功率半导体器件的新设计方法。传统功率硅技术中,IGBT开关被用于高于600V的电压,并且硅PIN-续流二极管是**技术的。硅功率器件的设计与软开关特性造成相当大的功率损耗。有了SiC的宽禁带,可设计阻断电压高达15kV的高压MOSFET,同时动态损耗非常小。有了SiC,传统的软关断硅二极管可由肖特基二极管取代,并带来非常低的开关损耗。作为一个额外的优势,SiC具有比硅高3倍的热传导率。连同低功率损耗,SiC是提高功率模块**率密度的一种理想材料。江苏碳化硅衬底进口4寸与Si相比,SiC的禁带宽度为其2-3倍,同时具有其4.4倍的热导率,8倍的临界击穿电场。

碳化硅耐高温,与强酸、强碱均不起反应,导电导热性好,具有很强的抗辐射能力。用碳化硅粉直接升华法可制得大体积和大面积碳化硅单晶。用碳化硅单晶可生产绿色或蓝色发光二极管、场效应晶体管,双极型晶体管。用碳化硅纤维可制成雷达吸波材料,在***工业中前景广阔。碳化硅超精细微粉是生产碳化硅陶瓷的理想材料。碳化硅陶瓷具有优良的常温力学性能,如高的抗弯强度,优良的抗氧化性,耐腐蚀性,非常高的抗磨损以及低的磨擦系数,而且高温力学性能(强度、抗蠕变性等)是已知陶瓷材料中比较好的材料,如晶须补强可改善碳化硅的韧性和强度。

在半导体材料的发展历史上,通常将硅(Si)、锗(Ge)称作第1代半导体。将砷化镓(GaAs)、磷化铟(InP)、磷化镓(GaP)等为**的合金半导体称作第2代半导体。在其之后发展起来的宽带隙半导体,碳化硅(SiC)、氮化镓(GaN)、氮化铝(AlN)及金刚石等称为第3代半导体。SiC作为第3代半导体的杰出**之一,相比前2代半导体材料,具有宽带隙、高热导率高、较大的电子饱和漂移速率、高化学稳定性、高击穿电场高等诸多优点,在高温、高频、大功率器件的制作上获得广泛应用。SiC晶体有着很多不同的多型体,不同多型体的禁带宽度在2.3~3.3eV之间,因而,SiC也被用于制作蓝、绿和紫外光的发光、光探测器件,太阳能电池,以及智能传感器件等。另外,SiC能够氧化形成自然绝缘的二氧化硅(SiO2)层,同时也具有制造各种以金属-氧化物-半导体(MOS)为基础的器件的巨大潜能。表1给出了不同多型体SiC和其他半导体材料相比的主要物理性质。碳化硅(SiC)由于其独特的物理及电子特性,在一些应用上成为比较好的半 导体材料。

SiC半导体技术在过去10年得到了飞速的发展,目前SiC因片的体生长和外延生长技术已经可以得到应用于商业生产的SiC圆片,市场上可以获得4英寸的SiC圆片,6英寸的圆片生产技术也不断研制成熟.不管是SiC分立器件还是集成电路,都已经有了许多实验室产品,而且部分产品已经进入市场,然而要进入SiC产品的大规模应用阶段还需做大量的工作.一方面在器件制造过程中很多工艺步骤还要进行改进与提高,如小区域刻蚀、表面清洁以及在极端条件下工作的SiC器件的绝缘和互连技术还需要进行深入研究,除此之外,还有一个迫切需要解决的问题,即如何通过改进和优化器件与电路的设计去发挥SiC材料的***性能,随着SiC材料生长、器件制造技术的不断成熟,会有越来越多的SiC电子产品进入应用领域制备SiC薄膜的方法主要分为两大类:物***相沉积法和化学气相沉积法。山东进口6寸碳化硅衬底

SiC由Si原子和C原子组成,其晶体结构具有同质多型体的特点。上海碳化硅衬底led

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由于碳化硅优异的理化性能,使其在石油、化工、微电子、汽车、航天航空、激光、原子能、机械、冶金行业中***得到应用。如砂轮、喷咀、轴承、密封件、燃气轮机动静叶片,反射屏基片,发动机部件,耐火材料等。 上海碳化硅衬底led

苏州豪麦瑞材料科技有限公司是一家苏州豪麦瑞材料科技有限公司(Homray Material Company)成立于2014年,是由一群在半导体行业从业多年的专业团队所组成,专注于半导体技术和资源的发展与整合,现以进口碳化硅晶圆,供应切割、研磨及抛光等相关制程的材料与加工设备,氧化铝研磨球,氧化锆研磨球,陶瓷研磨球,陶瓷精加工,抛光液。的公司,是一家集研发、设计、生产和销售为一体的专业化公司。公司自创立以来,投身于陶瓷研磨球,碳化硅,陶瓷精加工,抛光液,是化工的主力军。豪麦瑞材料科技继续坚定不移地走高质量发展道路,既要实现基本面稳定增长,又要聚焦关键领域,实现转型再突破。豪麦瑞材料科技创始人王省力,始终关注客户,创新科技,竭诚为客户提供良好的服务。

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