上海磁控溅射无纺布镀铝膜系列

时间:2020年11月17日 来源:

氧化物真空镀铝膜技术的应用近年来,迅速发展微波加热技术给微波食品包装及需经微波杀菌消毒的一类商品的包装提出了新的要求,即包装材料不仅要具有优良的阻隔性能,而且还要耐高温、微波透过性好等特性,传统的包装材料很难各个方面具备这些特点。非金属镀膜可采用蒸镀原料可采用SiOX、SiO2,也可以采用其它氧化物如Al2O3、MgO、Y2O3、TiO2、Gd2O3等,其中极常用的是SiOX、AlOx。氧化物镀膜的蒸发源有电阻式和电子束两种,电阻式蒸发源以电阻通过发热的原理来加热蒸镀原料。镀膜光线透穿率可达95%。上海磁控溅射无纺布镀铝膜系列

真空镀铝膜的特点有哪些?①和铝箔相比减少了铝的用量,节省了能源和材料,降低了成本。复合用铝箔厚度多为7~9μm,而镀铝薄膜的铝层厚度为400A(0.04μm)左右,其耗铝量约为铝箔的1/200,且生产速度可高达700m/min。②具有优良的耐折性和良好的韧性,很少出现小孔和裂口,无揉曲龟裂现象,对气体、水蒸气、气味、光线等的阻隔性提高。③具有比较好的金属光泽,光反射率可达97%;且可以通过涂料处理形成彩色膜,其装潢效果是铝箔所不及的。上海双层气泡镀铝膜多少钱真空镀铝膜是一种廉价美观、性能优良、实用性强的包装材料。

真空镀铝薄膜是在高真空条件下,以电阻、高频或电子束等加热方式使铝熔化蒸发,在薄膜基材的表面附着而形成复合薄膜的一种工艺。在塑料薄膜表面镀上一层极薄的金属铝即成为镀铝薄膜。用于包装上的真空镀铝薄膜具有铝材用量少、耐折叠性高、阻隔性能高、抗静电等特点,使镀铝薄膜成为一种性能优良、经济美观的新型复合薄膜,在许多方面已取代了铝箔复合材料。主要用于风味食品、日用品、农产品、药品、化妆品以及香yan的包装。我国是从上世纪九十年代开始引进国外设备进行真空镀铝薄膜生产的,经过二十多年的发展,真空镀铝膜产能已经达到40万吨,成为世界极大的真空镀铝膜生产基地。

真空镀铝膜可采用屏蔽或洗脱进行部分镀铝,以获得任意图案或透明窗口,能看到包装的内容物。真空镀铝膜的镀铝层导电性能好,能去除静电效应,尤其包装粉末状产品时,不会污染封口部分,保证了包装的密封性能。真空镀铝膜对印刷、复合等后加工具有良好的适应性。在真空中制备膜层,包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜.虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段,但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜.真空镀膜有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。镀膜是在表面镀上非常薄的透明薄膜。

磁控溅射镀膜这部分应是生产线的主体,而且是处在真空状态下的一个系统,是由不锈钢或碳钢做成的一个个**的室体连接组成。它的两端为了反复地使清洗过的玻璃基片进入和让镀制好的基片输出,而处在一个特殊的状态,称为真空锁室。每个锁室的两端都有阀门并配置抽气能力强大的真空机组,可以容易地完成真空和大气的转换。与真空锁室相连的真空室体称之为过渡室。它的作用是停留由锁室输入的待镀基片,或让沉积好的基片停留于此,等待输出锁室,起到调配基片运行的作用。真空镀铝膜具有很好的保护性。防伪镭射介质膜价位

真空镀铝膜可采用屏蔽式进行部分镀铝。上海磁控溅射无纺布镀铝膜系列

真空镀铝膜开通冷却源,使铝丝在蒸发舟上连续地熔化、蒸发,从而在移动的薄膜表面冷却后形成一层光亮的铝层即为镀铝薄膜。真空蒸镀原理,将被镀薄膜基材(筒状〕装在真空蒸镀机中,用真空泵抽真空,使镀膜中的真空度达到1.3×10-2~1.3×10-3Pa,加热坩锅使高纯度的铝丝在1200℃~1400℃的温度下溶化并蒸发成气态铝。气态铝微粒在移动的薄膜基材表面沉积、经冷却还原即形成一层连续而光亮的金属铝层。通过控制金属铝的蒸发速度、薄膜基材的移动速度以及镀膜室的真空度等来控制镀铝层的厚度。上海磁控溅射无纺布镀铝膜系列

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