上海防伪镭射介质膜产品

氧化物真空镀铝膜技术的应用近年来，迅速发展微波加热技术给微波食品包装及需经微波杀菌消毒的一类商品的包装提出了新的要求，即包装材料不仅要具有优良的阻隔性能，而且还要耐高温、微波透过性好等特性，传统的包装材料很难各个方面具备这些特点。非金属镀膜可采用蒸镀原料可采用SiOX、SiO2，也可以采用其它氧化物如Al2O3、MgO、Y2O3、TiO2、Gd2O3等，其中极常用的是SiOX、AlOx。氧化物镀膜的蒸发源有电阻式和电子束两种，电阻式蒸发源以电阻通过发热的原理来加热蒸镀原料。真空镀铝膜在复合包装中的应用十分普遍。上海防伪镭射介质膜产品

真空镀铝膜的二极溅射方法虽然简单，但放电不稳定，而且沉积速率低。为了提高溅射速率以及改善膜层质量，人们在二极溅射装置的基础上附加热阴极，制作出三极溅射装置。三极溅射中，等离子体的密度可以通过改变电子发射电流和加速电压来控制。离子对靶材的轰击能量可以用靶电压加以控制，从而解决了二极溅射中靶电压、靶电流和气压之间相互制约的矛盾。三极溅射的缺点在于放电不稳定，等离子体密度不均匀引起的膜厚不均匀。为此，在三极溅射的基础上又加了一个辅**极，这就形成了四极溅射。上海镭射介质膜技术真空镀铝膜存放时间长了，会有基材吸水引起的镀铝后出现雾状的情况。

镀膜过渡室亦应配置真空机组,并要保持较高的真空度。输入端的过渡室内可以设置辉光放电等离子清洗装置。但应考虑与基片运行方向相邻的室体的隔离,这种隔离主要是相邻的室体维持不同的压力。辉光放电的压力一般较高,而溅射镀膜的工作压力往往在更低的量级。在前后过渡室之间的部分称为镀膜室或溅射室。每个镀膜室是一个**的沉积区域。所谓**是指该镀膜室内的工作压力以及工作氛围不受其它室体的影响。每个溅射室设有一付或两付靶位。每付靶位上可以安装一付磁控溅射靶,或称为阴极。

真空镀铝膜开通冷却源，使铝丝在蒸发舟上连续地熔化、蒸发，从而在移动的薄膜表面冷却后形成一层光亮的铝层即为镀铝薄膜。真空蒸镀原理，将被镀薄膜基材（筒状〕装在真空蒸镀机中，用真空泵抽真空，使镀膜中的真空度达到1.3×10－2～1.3×10-3Pa，加热坩锅使高纯度的铝丝在1200℃～1400℃的温度下溶化并蒸发成气态铝。气态铝微粒在移动的薄膜基材表面沉积、经冷却还原即形成一层连续而光亮的金属铝层。通过控制金属铝的蒸发速度、薄膜基材的移动速度以及镀膜室的真空度等来控制镀铝层的厚度。镀膜的材料本身是一种无机物，对膜本身没有损害。

真空镀铝膜可用于纸张的蒸镀，但纸张的质量要求高，并对纸的定量有一定的限度。真空镀铝膜转移法。是借助载体膜(真空镀铝膜)将金属铝层转移到基材的表面而形成镀铝薄膜。转移法是在直接蒸镀法的基础上发展起来的新工艺，它克服了直接蒸镀法对基材要求的局限性，尤其适合于在各种纸及纸板上进行镀铝，也可用于塑料薄膜的镀铝。国外已将转移法应用到布、纤维、皮革等基材的镀铝产品上。我国主要采用转移法生产镀铝纸。真空镀铝膜的使用方法还是比较规范的。真空镀铝膜在许多方面已取代了铝箔复合材料。PET高反射镀膜技术

真空镀铝膜基本性能要求检验合格后，其包装应对镀铝件起到有效的防护作用。上海防伪镭射介质膜产品

真空镀铝膜升温时基材内小分子挥发物质易挥发，影响镀铝层的质量。基材必须有一定的强度和表面平滑度，镀铝基材表面忌油迹，要求无银丝、熔接痕、收缩和划伤等，因有底镀和无底镀都无法遮覆这些缺陷。此外，真空镀铝基材的含水量一般应低于0.1%，含水量高时真空镀铝膜会发雾。因此吸湿性大的基材在镀铝前应进行干燥处理。汽车灯具真空镀铝膜厚度为0.4~1.2μm，表面平整，具有较高的光泽。其镀铝方式分为无底镀和有底镀两种，镀铝方式的选择与基材性质有关。上海防伪镭射介质膜产品

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