上海基板抛光液价格
化学机械抛光液
1、化学机械抛光液概念 化学机械抛光液是在利用化学机械抛光技术对半导体材料进行加工过程中的一种研磨液体，由于抛光液是CMP的关键要素之一，它的性能直接影响抛 光后表面的质量，因此它也成为半导体制造中的重要的、必不缺少的辅助材料。
2、化学机械抛光液的组成 化学机械抛光液的组成一般包括一般由超细固体粒子研磨剂（如纳米SiO2、Al2O3粒子等）、表面活性剂、稳定剂、氧化剂等。固体粒子提供研磨作用,化学氧化剂提供腐蚀溶解作用，由于SiO2粒子去除率比较高,得到的表面质量比较好，因此在硅片抛光加工中主要采用SiO2抛光液，
3、化学机械抛光液的分类 抛光工艺中有粗抛光和精抛光之分，故有粗抛光液和精抛光液品种之分。
4、CMP过程中对抛光液性能的要求 抛光液的浓度、磨粒的种类、大小、形状及浓度、抛光液的粘度、pH值、流速、流动途径对去除速度都有影响。 本公司销售的纳米抛光液应用范围：汽车表面漆层、宇航飞机机翼前缘。上海基板抛光液价格
金刚石抛光液（多晶金刚石抛光液、单晶金刚石抛光液和纳米金刚石抛光液）、氧化硅抛光液（即CMP抛光液）、氧化铈抛光液、氧化铝抛光液和碳化硅抛光液等几类。抛光液是一种不含任何硫、磷、氯添加剂的水溶性抛光剂，具有良好的去油污，防锈，清洗和增光性能，并能使金属制品超过原有的光泽。本产品性能稳定、***，对环境无污染等作用，光液使用方法：包括棘轮扳手、开口扳手，批咀、套筒扳手，六角扳手，螺丝刀等，铅锡合金、锌合金等金属产品经过研磨以后，再使用抛光剂配合振动研磨光饰机，滚桶式研磨光式机进行抛光；1抛光剂投放量为（根据不同产品的大小，光饰机的大小和各公司的产品光亮度要求进行适当配置），2：抛光时间：根据产品的状态来定。3、抛光完成后用清水清洗一次并且烘干即可。进口金刚石抛光液品牌多晶金刚石抛光液以多晶金刚石微粉为主要成分，可以在保持高切削率的同时不易对研磨材质产生划伤。
集成电路铜互连一步化学机械抛光工艺及相应纳米抛光液:一种用于集成电路多层互连结构铜/钽化学机械抛光(CMP)的一步抛光工艺技术及相应纳米抛光液。对于互连结构的铜/钽多层膜体系的化学机械抛光,通过本发明的“一步抛光工艺”,单头抛光机能够代替昂贵的多头抛光机,实现多层膜的分步抛光。通过化学机械抛光过程中多层膜体系界面间在线检测信号(声学、力学、电学或光学信号)差异的反馈,对抛光液实施分段应用,有效改善了原有的单一抛光液或分步抛光中存在的低速率及选择性问题。该抛光工艺及相应纳米抛光液有效改善了单一抛光液的速率问题;以单头抛光机代替多头抛光机,降低了设备成本;同时抛光后表面损伤少、易清洗,抛光液不腐蚀设备、不污染环境。
高介电材料钛酸锶钡化学机械抛光用的纳米抛光液:一种用于半导体器件中高介电常数介电材料钛酸锶钡(BaxSr1-xTiO3,BST)化学机械抛光(CMP)的纳米抛光液。该CMP纳米抛光液包含有纳米研磨料、螯合剂、pH调节剂、表面活性剂、消泡剂、杀菌剂及溶剂等。该抛光液损伤少、易清洗、不腐蚀设备、不污染环境,主要用于新一代高密度存储器(DRAM)电容器介电材料及CMOS场效应管的栅介质——高介电常数介电材料钛酸锶钡的全局平坦化。利用上述纳米抛光液采用化学机械抛光方法平坦化高介电常数介电材料钛酸锶钡,抛光后表面的粗糙度降至0.8nm以下,抛光速率达200～300nm/min;抛光后表面全局平坦度高,损伤较少,是制备超高密度动态存储器(DRAM)及CMOS场效应管时高介电材料平坦化的一***抛光液。本公司销售的纳米抛光液应用范围：催化剂、催化载体、分析试剂。
玻璃抛光液
一、玻璃抛光液技术参数
1、玻璃抛光液中心粒径 d50：1um-1.5um
2、玻璃抛光液PH 值：7
二、玻璃抛光液适用范围： 玻璃抛光液***适用于精密光学器件、硬盘基片、液晶屏幕显示器等，高精密度光学玻璃抛光.光学镜头、光纤连接器、微晶玻璃基板、晶体表面等方面的精密抛光。
三、玻璃抛光液使用方法： 原液使用、添加到储液槽，建议抛光浓度：温度（约100～150克/升：20～35℃） 四、玻璃抛光液保质期： 常温储存（25 ℃），两年。
五、玻璃抛光液包装规格： 25KG/桶。
六、玻璃抛光液注意事项：
1、此说明所述技术性能及应用方法*供专业人士参考，而并非对使用效果之承诺.凡新使用产品及改变工艺,须先做严格的可行性测试，以求比较好使用效果；
2、不用时请将容器封好，避免儿童接触；不慎溅入眼内，请用清水冲洗或到医院检查。 本公司销售的氧化铝抛光液运用抛光过程中的化学新作用，提高抛光速度，改善抛光表面的质量。硅抛光液用途
本公司销售的氧化硅抛光液纳米颗粒呈球形，单分散，大小均匀，粒径分布窄，可获得高质量的抛光精度。上海基板抛光液价格
陶瓷手机壳用**纳米氧化铝抛光液
本公司的纳米抛光液可以对手机壳等材料进行抛光处理。白色液体氧化铝抛光液含α氧化铝30%，氧化铝平均粒度为80-150nm，pH显中性，不含对人体有害成分。本α氧化铝晶型化优良，材料去除效率高，可达到镜面的亮度。产品极易清理，且对设备没有任何腐蚀。本产品质量稳定，不会沉淀。它具有的特点包括纳米氧化铝粒径均匀、软硬度适中、粒度分布集中，没有特别大的颗粒，不会对抛光物体产生划痕，材料会光亮如镜，抛光亮度稳定悬浮性好、不易沉淀、使用方便，可以长时间使用，从而保证使用寿命，它的分散性好、乳液均一，**提高了抛光效率和精度。同时，具有无腐蚀、不易变质等性能。 上海基板抛光液价格