磁控溅射无纺布镀铝膜加工制造

真空镀铝膜开通冷却源，使铝丝在蒸发舟上连续地熔化、蒸发，从而在移动的薄膜表面冷却后形成一层光亮的铝层即为镀铝薄膜。真空蒸镀原理，将被镀薄膜基材（筒状〕装在真空蒸镀机中，用真空泵抽真空，使镀膜中的真空度达到1.3×10－2～1.3×10-3Pa，加热坩锅使高纯度的铝丝在1200℃～1400℃的温度下溶化并蒸发成气态铝。气态铝微粒在移动的薄膜基材表面沉积、经冷却还原即形成一层连续而光亮的金属铝层。通过控制金属铝的蒸发速度、薄膜基材的移动速度以及镀膜室的真空度等来控制镀铝层的厚度。真空镀铝膜对印刷、复合等后加工具有良好的适应性。磁控溅射无纺布镀铝膜加工制造

氧化物真空镀铝膜技术的应用近年来，迅速发展微波加热技术给微波食品包装及需经微波杀菌消毒的一类商品的包装提出了新的要求，即包装材料不仅要具有优良的阻隔性能，而且还要耐高温、微波透过性好等特性，传统的包装材料很难各个方面具备这些特点。非金属镀膜可采用蒸镀原料可采用SiOX、SiO2，也可以采用其它氧化物如Al2O3、MgO、Y2O3、TiO2、Gd2O3等，其中极常用的是SiOX、AlOx。氧化物镀膜的蒸发源有电阻式和电子束两种，电阻式蒸发源以电阻通过发热的原理来加热蒸镀原料。无纺布镀银膜技术真空镀铝膜的镀铝层导电性能好，能消除静电效应；

真空镀铝膜反应磁控溅射沉积过程中基板升温较小，而且制膜过程中通常也不要求对基板进行高温加热，因此对基板材料的限制较少。反应磁控溅射适于制备大面积均匀薄膜，并能实现单机年产上百万平方米镀膜的工业化生产。磁控溅射镀膜原理：磁控溅射系统在阴极靶材的背后放置100～1000Gauss强力磁铁,真空室充入1～10Pa压力的惰性气体(Ar),作为气体放电的载体。在高压作用下Ar原子电离成为Ar+离子和电子,电子在加速飞向基片的过程中,受到垂直于电场的磁场影响。

在现代镜头制造工艺上都要对镜头进行镀膜。镜头的镀膜是根据光学的干涉原理，在镜头表面镀上一层厚度为四分之一波长的物质(通常为氟化物)，使镜头对这一波长的色光的反射降至极低。显然，一层膜只对一种色光起作用，而多层镀膜则可对多种色光起作用。多层镀膜通常采用不同的材料重复地在透镜表面镀上不同厚度的膜层。多层镀膜可提高镜头的透光率，例如，未经镀膜的透镜每个表面的反射率为5%，单层镀膜后降至2%，而多层镀膜可降至0．2%，这样，可减少镜头各透镜间的漫反射，从而提高影像的反差和明锐度。真空镀铝膜在移动的薄膜表面冷却后形成一层光亮的铝层即为镀铝薄膜。

镀膜的溅射室的数量亦或溅射靶的数量,包括选用的靶材,取决于生产线开发膜系的能力和产量。磁控溅射靶的功率密度一般13W/cm2,比直流溅射要高得多。但实际的电源往往很难保证靶的功率。没有大的功率就没有高沉积速率,而高沉积速率是现代镀膜所推崇的。电源的并联是增强功率的一个途径。平面磁控靶的结构分为直冷式和间冷式两类。直冷式适合于气密性好的靶材。由于冷却效果好,功率更大一些。间冷式的适合于气密性较差的靶材,功率要小一些。靶内磁体目前更多采用的是钕铁硼永磁体,。真空镀铝膜存放时间长了，会有基材吸水引起的镀铝后出现雾状的情况。磁控溅射镀铜膜生产厂家

真空镀铝膜是需要专业的人员进行操作的。磁控溅射无纺布镀铝膜加工制造

真空镀铝膜引起靶材中原子的运动。有的原子获得能量后从晶格处移位，并克服了表面势垒直接发生溅射；有的不能脱离晶格的束缚，只能在原位做振动并波及周围原子，结果使靶的温度升高；而有的原子获得足够大的能量后产生一次反冲，将其临近的原子碰撞移位，反冲继续下去产生高次反冲，这一过程称为级联碰撞。级联碰撞的结果是部分原子达到表面，克服势垒逸出，这就形成了级联溅射，这就是溅射机理。当级联碰撞范围内反冲原子密度不高时，动态反冲原子彼此间的碰撞可以忽略，这就是线性级联碰撞。磁控溅射无纺布镀铝膜加工制造