防伪镭射介质膜系列

真空镀膜的功能是多方面的,这也决定了其应用场合非常丰富.总体来说,真空镀膜的主要功能包括赋予被镀件表面高度金属光泽和镜面效果,在薄膜材料上使膜层具有出色的阻隔性能,提供优异的电磁屏蔽和导电效果.磁控溅射镀膜，磁控溅射是70年代在阴极溅射的基础上发展起来的一种新型溅射镀膜法,由于它有效地克服了阴极溅射速率低和电子使基片温度升高的致命弱点,因此获得了迅速的发展和普遍的应用。溅射机理，入射离子轰击靶面时，将其部分能量传输给表层晶格原子。真空镀铝膜适合于在各种薄膜上进行镀铝。防伪镭射介质膜系列

真空镀铝膜反应磁控溅射，以金属、合金、低价金属化合物或半导体材料作为靶阴极，在溅射过程中或在基片表面沉积成膜过程中与气体粒子反应生成化合物薄膜，这就是反应磁控溅射。反应磁控溅射普遍应用于化合物薄膜的大批量生产，这是因为：(1)反应磁控溅射所用的靶材料(单元素靶或多元素靶)和反应气体(氧、氮、碳氢化合物等)纯度很高，因而有利于制备高纯度的化合物薄膜。(2)通过调节反应磁控溅射中的工艺参数,可以制备化学配比或非化学配比的化合物薄膜，通过调节薄膜的组成来调控薄膜特性。BOPP镀铝膜反射镜真空镀铝膜在许多方面已取代了铝箔复合材料。

塑料薄膜的镀膜工艺一般采用直镀法，即将铝层直接镀在基材薄膜表面。BOPET、BOPA薄膜基材镀铝前不需进行表面处理，可直接进行蒸镀。而BOPP、CPP、PE等非极性塑料薄膜，在蒸镀前需对薄膜表面进行电晕处理或涂布黏合层，使其表面张力达到38-42达因/厘米或具有良好的粘合性。蒸镀时，将卷筒薄膜置放于真空室内，关闭真空室抽真空。当真空度达到一定（4×10－4mba以上）时，将蒸发舟升温至1300℃～1400℃，然后再把纯度为99．9%的铝丝连续送至蒸发舟上。调节好放卷速度、收卷速度、送丝速度和蒸发量，开通冷却源，使铝丝在蒸发舟上连续地熔化、蒸发，从而在移动的薄膜表面冷却后形成一层光亮的铝层即为镀铝薄膜。

真空镀铝膜引起靶材中原子的运动。有的原子获得能量后从晶格处移位，并克服了表面势垒直接发生溅射；有的不能脱离晶格的束缚，只能在原位做振动并波及周围原子，结果使靶的温度升高；而有的原子获得足够大的能量后产生一次反冲，将其临近的原子碰撞移位，反冲继续下去产生高次反冲，这一过程称为级联碰撞。级联碰撞的结果是部分原子达到表面，克服势垒逸出，这就形成了级联溅射，这就是溅射机理。当级联碰撞范围内反冲原子密度不高时，动态反冲原子彼此间的碰撞可以忽略，这就是线性级联碰撞。真空镀铝膜主要为热固化底漆和紫外光(UV)固化底漆，适用性很好。

真空镀铝膜流淌和涂覆不均匀往往会导致镀铝产品报废。涂覆件一定要有足够的干燥温度和时间，若干燥不好，耐高温试验会有镀铝面发雾或起皱纹等现象。真空镀铝膜时，工件装架不当会引起镀铝区域偏移而报废；若铝丝纯度不够或蒸发控制不当，蒸发中有杂质逸出会形成炸铝痕迹而残留于塑件表面；蒸发温度过高或过低、蒸发器表面温度不稳定都会在真空镀铝膜表面留下小颗粒白点(对着灯光观察)；真空度不好会导致镀膜附着力不合格；镀膜流量控制不好也会导致镀膜发彩等。镀膜是通过真空镀铝工艺将高纯度的铝丝在高温（1100~1200℃）下蒸发成气态。上海磁控溅射镀铝膜工厂

真空镀铝膜流淌和涂覆不均匀往往会导致镀铝产品报废。防伪镭射介质膜系列

真空镀铝膜升温时基材内小分子挥发物质易挥发，影响镀铝层的质量。基材必须有一定的强度和表面平滑度，镀铝基材表面忌油迹，要求无银丝、熔接痕、收缩和划伤等，因有底镀和无底镀都无法遮覆这些缺陷。此外，真空镀铝基材的含水量一般应低于0.1%，含水量高时真空镀铝膜会发雾。因此吸湿性大的基材在镀铝前应进行干燥处理。汽车灯具真空镀铝膜厚度为0.4~1.2μm，表面平整，具有较高的光泽。其镀铝方式分为无底镀和有底镀两种，镀铝方式的选择与基材性质有关。防伪镭射介质膜系列