贴电镀膜技术

真空对镀膜室抽真空至5×10?2Pa时，充入氩气430mL，利用2个适当的电极间的低压辉光放电产生的离子轰击达到清洗和辅助预热镀膜基底的作用，轰击时间为150s；镀铝部分蒸发器快速升至高温，铝丝从预热、熔化、蒸发镀铝到镀铝完成的时间为30s多；采用二次离子轰击，去除膜表面粒状颗粒，使膜层更加致密，轰击时间为80s；镀保护膜时间为(200±50)s，真空度为3×10?2Pa，由充入的硅油流量加少量氩气来控制真空度，硅油流量由调节阀控制，直至放气结束。真空镀铝膜的适用性还是比较强的。真空镀铝膜将卷筒薄膜置放于真空室内。贴电镀膜技术

等离子预处理工艺在真空镀铝膜中的应用，等离子体是电离了的气体。它由电子、离子和中性粒子3种成分组成，其中电子和离子的电荷总数基本相等，故整体是电中性的。在基材薄膜镀铝前，通过等离子处理装置将电离的等离子体中的电子或离子打到基材薄膜表面，一方面，可以打开材料的长分子链，出现高能基团；另一方面，经打击使薄膜表面出现细小的凹陷，同时还可使表面杂质离解、重解。电离时放出的臭氧有强氧化性，附着的杂质被氧化而除去，使镀铝基材薄膜的表面自由能提高，达到提高镀铝层附着牢度的目的。上海PET镀铜膜厂镀膜是采用特殊工艺在塑料薄膜表面镀上一层极薄的金属铝而形成的一种复合软包装材料。

真空镀铝膜热变形后基材起皱，造成镀膜不均匀或破裂，达不到提高阻隔性能的效果，因此，软化点和熔点较低的塑料薄膜蒸镀效果较差。实验表明只有PP、PET、PA等材料才能较适合氧化物镀膜加工。涂布技术在真空镀铝膜中的应用将涂布技术与真空镀铝技术结合起来，通过在基材薄膜或镀铝薄膜上涂布功能层，以达到提高镀铝层的附着牢度、耐水煮性能、阻隔性能、装饰性能等，满足不同应用领域的要求。经过等离子预处理的真空镀铝薄膜虽然镀铝层牢度有了明显提高，但对于一些对镀铝层附着牢度要求更高。

真空镀铝膜已有电子束蒸发源蒸镀法、高频感应蒸发源蒸镀法、激光束蒸发源蒸镀法涌现，其中电子束蒸发源蒸镀法将是真空镀铝技术中重要的加热方式和发展方向。总之，真空镀铝膜是灯具塑件表面加工必不可少的加工工艺，将在灯具制造领域中得到更加广阔的发展空间。光密度法，以光线透过真空镀铝膜的密度来衡量。用光密度计量镀铝层厚度的优点是方便、准确，测量结果不易受表面氧化层的影响。光密度值与入射光波长有关。采用表面方块电阻测量。此法简单实用，一般铝层厚度对应的表面电阻一般在1~2。取样或宽1cm长，10cm的电阻值在1~20之间。镀膜刚下卷时，铝层表面氧化少，测量更加准确。真空镀铝膜存放时间长了，会有基材吸水引起的镀铝后出现雾状的情况。

真空镀铝膜反应磁控溅射，以金属、合金、低价金属化合物或半导体材料作为靶阴极，在溅射过程中或在基片表面沉积成膜过程中与气体粒子反应生成化合物薄膜，这就是反应磁控溅射。反应磁控溅射普遍应用于化合物薄膜的大批量生产，这是因为：(1)反应磁控溅射所用的靶材料(单元素靶或多元素靶)和反应气体(氧、氮、碳氢化合物等)纯度很高，因而有利于制备高纯度的化合物薄膜。(2)通过调节反应磁控溅射中的工艺参数,可以制备化学配比或非化学配比的化合物薄膜，通过调节薄膜的组成来调控薄膜特性。真空镀铝膜主要应用于饼干等干燥、膨化食品包装以及一些医药、化妆品的外包装上。上海光学镀膜生产厂商

镀膜的加工方法当数真空镀铝法。贴电镀膜技术

真空镀铝膜引起靶材中原子的运动。有的原子获得能量后从晶格处移位，并克服了表面势垒直接发生溅射；有的不能脱离晶格的束缚，只能在原位做振动并波及周围原子，结果使靶的温度升高；而有的原子获得足够大的能量后产生一次反冲，将其临近的原子碰撞移位，反冲继续下去产生高次反冲，这一过程称为级联碰撞。级联碰撞的结果是部分原子达到表面，克服势垒逸出，这就形成了级联溅射，这就是溅射机理。当级联碰撞范围内反冲原子密度不高时，动态反冲原子彼此间的碰撞可以忽略，这就是线性级联碰撞。贴电镀膜技术