上海抛光液介绍

依据机械加工原理、半导体材料工程学、物力化学多相反应多相催化理论、表面工程学、半导体化学基础理论等，对硅单晶片化学机械抛光（CMP）机理、动力学控制过程和影响因素研究标明，化学机械抛光是一个复杂的多相反应，它存在着两个动力学过程：  （1）抛光首先使吸附在抛光布上的抛光液中的氧化剂、催化剂等与衬底片表面的硅原子在表面进行氧化还原的动力学过程。这是化学反应的主体。  （2）抛光表面反应物脱离硅单晶表面，即解吸过程使未反应的硅单晶重新裸露出来的动力学过程。它是控制抛光速率的另一个重要过程。  硅片的化学机械抛光过程是以化学反应为主的机械抛光过程，要获得质量好的抛光片，必须使抛光过程中的化学腐蚀作用与机械磨削作用达到一种平衡。如果化学腐蚀作用大于机械抛光作用，则抛光片表面产生腐蚀坑、桔皮状波纹。如果机械磨削作用大于化学腐蚀作用，则表面产生高损伤层。本公司销售的氧化硅抛光液适合与各种抛光垫、合成材料配合抛光使用。上海抛光液介绍

    抛光液是一种不含任何硫、磷、氯添加剂的水溶性抛光剂，具有良好的去油污，防锈，清洗和增光性能，并能使金属制品超过原有的光泽。本产品性能稳定、***，对环境无污染等作用，光液使用方法：包括棘轮扳手、开口扳手，批咀、套筒扳手，六角扳手，螺丝刀等，铅锡合金、锌合金等金属产品经过研磨以后，再使用抛光剂配合振动研磨光饰机，滚桶式研磨光式机进行抛光；1抛光剂投放量为（根据不同产品的大小，光饰机的大小和各公司的产品光亮度要求进行适当配置），2：抛光时间：根据产品的状态来定。3、抛光完成后用清水清洗一次并且烘干即可。这两个概念主要出现在半导体加工过程中，最初的半导体基片抛光沿用机械抛光、例如氧化镁、氧化锆抛光等，但是得到的晶片表面损伤是及其严重的。直到60年代末，一种新的抛光技术——化学机械抛光技术取代了旧的方法。CMP技术综合了化学和机械抛光的优势：单纯的化学抛光，抛光速率较快，表面光洁度高，损伤低，完美性好，但表面平整度和平行度差，抛光后表面一致性差；单纯的机械抛光表面一致性好，表面平整度高，但表面光洁度差，损伤层深。化学机械抛光可以获得较为完美的表面，又可以得到较高的抛光速率。 山东基板抛光液性能本公司销售的氧化硅抛光液粒径分布***：5-100nm。

    研磨液供给与输送系统

①研磨液供给与输送系统与CMP工艺之间的关系：研磨液中的化学品在配比混合输送过程中可能有许多变化，这一点，使输送给机台的研磨液质量与抛光工艺的成功形成了非常紧密的关系，其程度超过了与高纯化学品的联系。尽管CMP设备是控制并影响CMP工艺结果的主要因素，但是研磨液在避免缺点和影响CMP的平均抛光速率方面起着巨大的作用。

②研磨液供给与输送系统实现的目标：通过恰当设计和管理研磨液供给与输送系统来保证CMP工艺的一致性。研磨液的混合、过滤、滴定以及系统的清洗等程序会减轻很多与研磨液相关的问题。那么就要设计一个合适的研磨液的供给与输送系统，完成研磨液的管理，控制研磨液的混合、过滤、浓度、滴定及系统的清洗，减少研磨液在供给、输送过程中可能出现的问题和缺点，保证CMP的平坦化效果。

③抛光研磨液后处理：作为消耗品，研磨液一般是一次性使用。随着CMP市场的扩大，抛光研磨液的排放及后处理工作量也在增大(出于环保原因，即使研磨液不再重复利用，也必须先处理才可以排放)。而且，抛光研磨液价格昂贵，如何对抛光研磨液进行后处理，补充必要的化学添加剂，重复利用其中的有效成分，或降级使用，不仅可以减少环境污染。

纳米氧化铝颗粒在极性的水溶液中，氧化铝颗粒因为受静电力等作用发作聚会，简单呈现絮凝分层等现象，抛光液的涣散性、安稳性。由磨料颗粒的聚会现象发作的大颗粒胶团，是化学机械抛光进程中衬底外表呈现划痕的主要原因。氧化铝颗粒的粒径巨细及散布、Zeta电位，以及抛光液添加安稳剂、涣散剂的品种和质量对抛光液安稳性有较大的影响。

  对纳米氧化铝外表改性可进步颗粒外表规矩度，减少抛光划痕和凹坑，一起进步氧化铝磨料涣散度和抛光液安稳性。常见的处理办法为利用偶联剂、有机物、无机物等在硬度较高的氧化铝粒子外表包覆一层较软的物质以减少抛光划痕和凹坑等缺点，从而改进氧化铝抛光液的安稳性和涣散性，一起能有用进步抛光磨料的耐磨性能。此外，还能够经过改动氧化铝颗粒Zeta电位来进步抛光液的安稳性。

  磨料粒子的涣散问题。现在，国内外常用超声波、机械拌和、外表处理等机械化学办法对纳米磨料粒子进行涣散，但是往往达不到效果，因而，纳米磨料粒子的涣散安稳性需要进一步的研讨。

本公司销售的纳米抛光液应用范围：汽车表面漆层、宇航飞机机翼前缘。

抛光液的使用说明

   一、抛光液特性  抛光液是一种不含任何硫、磷、氯添加剂的水溶性抛光剂，具有良好的去油污，防锈，清洗和增光性能，并能使金属制品超过原有的光泽。本产品性能稳定、***，对环境无污染等作用 

二、抛光液用途  抛光液适用于铅锡合金，铜，锌合金，不锈钢，铝合金，铁等金属零部件的抛光，光亮度可达12级，可取代多种进口抛光剂和抛光粉。 

三：抛光液技术指标  抛光液项目指标测试方式： PH值 5.5—6.5 ***PH值试纸 外观 黄色粘稠液体 目测  粘度 500—100cps 粘度器测定 纳米 抛光液能达到超精密的抛光效果，分散稳定性，长时间不沉淀，不团聚。上海抛光液介绍

氧化铝抛光液是以超细氧化铝为磨料的抛光液，主要成分是微米或亚微米级的磨料。上海抛光液介绍

二氧化硅抛光液用特选的纳米级SiO2作为磨料。具有***、无腐蚀、不易变质等特点。在抛光中根据客户产品的需要可以优化不同配比，使加工出来的工件表面光亮美观、色泽鲜艳，防止工件的腐蚀，提高工件表面的亮泽，达到比较好使用效果。产品分别依客户和产品对应专用名称。  

 应用领域：  

1、金属类材料：如不锈钢、铝合金、锌件抛光 

2、LED蓝宝石衬底，晶体、宝石件抛光 

3、光学镜片、光学玻璃、陶瓷、石英件抛光 

4、磁头、硬盘件抛光 

5、光纤以及光伏抛光 上海抛光液介绍

苏州豪麦瑞材料科技有限公司创建于2014-04-24，注册资金 50-100万元，办公设施齐全，办公环境优越，已全面实行网络化办公，大大提高了速度和效率。致力于创造高品质的产品与服务，以诚信、敬业、进取为宗旨，以建HOMRAY名牌产品为目标，努力打造成为同行业中具有影响力的企业。公司不仅仅提供专业的苏州豪麦瑞材料科技有限公司（Homray Material Company）成立于2014年，是由一群在半导体行业从业多年的专业团队所组成，专注于半导体技术和资源的发展与整合，现以进口碳化硅晶圆，供应切割、研磨及抛光等相关制程的材料与加工设备，氧化铝研磨球，氧化锆研磨球，陶瓷研磨球，陶瓷精加工，抛光液。,同时还建立了完善的售后服务体系,为客户提供优质的产品和服务。诚实、守信是对企业的经营要求，也是我们做人的基本准则。公司致力于打造高品质的[ "陶瓷研磨球", "碳化硅", "陶瓷精加工", "抛光液" ]。