进口纳米压印质量怎么样
EVG610特征：
顶部和底部对准能力
高精度对准台
自动楔形误差补偿机制
电动和程序控制的曝光间隙
支持***的UV-LED技术
**小化系统占地面积和设施要求
分步流程指导
远程技术支持
多用户概念（无限数量的用户帐户和程序，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）
敏捷处理和光刻工艺之间的转换
台式或带防震花岗岩台的单机版
EVG610附加功能：
键对准
红外对准
纳米压印光刻
µ接触印刷
EVG610技术数据：
晶圆直径（基板尺寸）
标准光刻：比较大150毫米的碎片
柔软的UV-NIL：比较大150毫米的碎片
解析度：≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺）
支持流程：柔软的UV-NIL
曝光源：汞光源或紫外线LED光源
自动分离：不支持
工作印章制作：外部
SmartNIL集成多次使用的软标记处理功能，并具有显着的拥有成本的优势，同时保留可扩展性和易于维护的特点。进口纳米压印质量怎么样
EVG ® 610 紫外线纳米压印光刻系统
具有紫外线纳米压印功能的通用研发掩膜对准系统，从碎片到比较大150毫米。
该工具支持多种标准光刻工艺，例如真空，软，硬和接近曝光模式，并且可以选择背面对准。此外，该系统还为多功能配置提供了附加功能，包括键对准和纳米压印光刻（NIL）。EVG610提供快速的处理和重新安装工具，以改变用户需求，光刻和NIL之间的转换时间*为几分钟。其先进的多用户概念可以适应从初学者到**级别的所有需求，因此使其成为大学和研发应用程序的理想选择。
镜片成型纳米压印原理EVG®720/EVG®7200/EVG®7200LA是自动化的全场域纳米压印解决方案，适用于第3代基材。
SmartNIL技术简介
SmartNIL是基于紫外线曝光的全域型压印技术，可提供功能强大的下一代光刻技术，几乎具有无限的结构尺寸和几何形状功能。由于SmartNIL集成了多次使用的软标记处理功能，因此还可以实现****的吞吐量，并具有显着的拥有成本的优势，同时保留了可扩展性和易于维护的操作功能。另外，主模板的寿命延长到与用于光刻的掩模相当的时间。岱美作为EVG在中国区的代理商，欢迎各位联系我们，探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。
EVG ® 520 HE特征：
用于聚合物基材和旋涂聚合物的热压印和纳米压印应用
自动化压花工艺
EVG专有的**对准工艺，用于光学对准的压印和压印
气动压花选项
软件控制的流程执行
EVG ® 520 HE技术数据
加热器尺寸：150毫米，200毫米
比较大基板尺寸：150毫米，200毫米
**小基板尺寸：单芯片，100毫米
比较大接触力：10、20、60、100 kN
比较高温度：标准：350°C；可选：550°C
粘合卡盘系统/对准系统
150毫米加热器：EVG ® 610，EVG ® 620，EVG ® 6200
200毫米加热器：EVG ® 6200，MBA300，的Smart View ® NT
真空：
标准：0.1毫巴
可选：0.00001 mbar EVG的热压印是一种经济高 效且灵活的制造技术，具有非常高的复制精度，可用于**小50 nm的特征尺寸。
IQ Aligner UV-NIL 自动化紫外线纳米压印光刻系统
应用：用于晶圆级透镜成型和堆叠的高精度UV压印系统
IQ Aligner UV-NIL系统允许使用直径从150 mm至300 mm的压模和晶片进行微成型和纳米压印工艺，非常适合高度平行地制造聚合物微透镜。该系统从从晶圆尺寸的主图章复制的软性图章开始，提供了混合和整体式微透镜成型工艺，可以轻松地将其与工作图章和微透镜材料的各种材料组合相适应。此外，EV Group提供合格的微透镜成型工艺，包括所有相关的材料专业知识。EV Group专有的卡盘设计可为高产量大面积印刷提供均匀的接触力。配置包括从压印基材上释放印章的释放机制。
SmartNIL集成了多次使用的软标记处理功能，因此还可以实现****的吞吐量。CMOS纳米压印推荐厂家
EVG ® 520 HE是热压印系统。进口纳米压印质量怎么样
纳米压印光刻（NIL） -SmartNIL ®
用于大批量生产的大面积软UV纳米压印光刻工艺
介绍：
EVG是纳米压印光刻（NIL）的市场**设备供应商。EVG开拓了这种非常规光刻技术多年，掌握了NIL并已在不断增长的基板尺寸上实现了批量生产。EVG的专有SmartNIL技术通过多年的研究，开发和现场经验进行了优化，以解决常规光刻无法满足的纳米图案要求。SmartNIL可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印结果。
如果要获得详细信息，请联系我们岱美仪器技术服务有限公司或者访问官网。
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岱美仪器技术服务（上海）有限公司是一家磁记录、半导体、光通讯生产及测试仪器的批发、进出口、佣金代理（拍卖除外）及其相关配套服务，国际贸易、转口贸易，商务信息咨询服务 的公司，致力于发展为创新务实、诚实可信的企业。公司自创立以来，投身于半导体工艺设备，半导体测量设备，光刻机 键合机，膜厚测量仪，是仪器仪表的主力军。岱美中国继续坚定不移地走高质量发展道路，既要实现基本面稳定增长，又要聚焦关键领域，实现转型再突破。岱美中国创始人陈玲玲，始终关注客户，创新科技，竭诚为客户提供良好的服务。